特許
J-GLOBAL ID：200903082295890756

薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法

発明者：
佐々木 芳高

佐々木 芳高 について


出願人/特許権者：
ティーディーケイ株式会社

ティーディーケイ株式会社 について


代理人 (1件)： 三反崎 泰司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-261872
公開番号（公開出願番号）：特開2001-084514
出願日： 1999年09月16日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：
【要約】【課題】 磁極幅を縮小化した場合においても、磁極幅の正確な制御と十分なオーバーライト特性を実現し得る薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】 上部磁極27cは、上部ポールチップ27aの接続部27a(3)と部分的にオーバーラップすることにより、上部ポールチップ27aと磁気的に連結される。両者が磁気的に連結する磁気連結面27xに対応する領域、すなわち上部磁極27cと上部ポールチップ27aとがオーバーラップするオーバーラップ領域における下部磁極7の一部に、オーバーラップ領域の平面形状に対応する平面形状を有する磁気遮蔽層81を、記録ギャップ層9に隣接するように配設する。この磁気遮蔽層81により、オーバーラップ領域における上部ポールチップ27aの接続部27a(3) と下部磁極7との間の磁束の伝搬を抑制することができる。
請求項（抜粋）：
記録媒体に対向する側の一部に、ギャップ層を介して対向する2つの磁極を含む、互いに磁気的に連結された2つの磁性層と、前記2つの磁性層の間に絶縁層を介して配設された薄膜コイルとを有する薄膜磁気ヘッドであって、前記2つの磁性層のうち一方の磁性層は、前記記録媒体に対向する記録媒体対向面から、この面と離れる方向に延在する第1の磁性層部分と、前記第1の磁性層部分の一部と部分的にオーバーラップすると共に、このオーバーラップした領域において前記第1の磁性層部分と磁気的に連結された第2の磁性層部分とを含み、前記2つの磁性層のうち他方の磁性層は、前記記録媒体対向面から、この面と離れる方向に延在し、少なくとも、前記第1の磁性層部分と前記第2の磁性層部分とがオーバーラップするオーバーラップ領域に、前記ギャップ層に隣接すると共に前記第1の磁性層部分と前記他方の磁性層との間での磁束の伝搬を抑制する磁気遮蔽層が形成されていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
FI (2件)：
G11B 5/31 C ,  G11B 5/31 Q
Fターム (5件)：
5D033BA07 ,  5D033BA13 ,  5D033BB22 ,  5D033CA01 ,  5D033DA31
引用特許：
審査官引用 (3件)

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