位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスク

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中村静男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-347435
公開番号（公開出願番号）：特開平11-237727
出願日： 1995年07月19日
公開日（公表日）： 1999年08月31日
要約：

【要約】【課題】微細パターンの転写を行うことができる位相シフトマスクを得るための位相シフトマスクブランクを提供する。【解決手段】透明基板上に光半透過膜を有し、かつ該光半透過膜の露光光に対する入出射面の中心線平均粗さが0.1〜50nmRaであることを特徴とする位相シフトマスクブランクである。

請求項（抜粋）：

透明基板上に光半透過膜を有し、かつ該光半透過膜の露光光に対する入出射面の中心線平均粗さが0.1〜50nmRaであることを特徴とする位相シフトマスクブランク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 1/08 A , H01L 21/30 502 P

引用特許：

審査官引用 (4件)

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