特許
J-GLOBAL ID：200903062013045047
位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-057371
公開番号（公開出願番号）：特開平6-332152
出願日： 1994年03月28日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：
【要約】【目的】 比較的単純な工程で微小欠陥の発生を押さえつつ製造でき、かつ、高解像度のパターン転写が可能な位相シフトマスク及びその素材たる位相シフトマスクブランクを提供する。【構成】 透明基板上1に形成するマスクパターンを、実質的に露光に寄与する強度の光を透過させる光透過部4と実質的に露光に寄与しない強度の光を透過させる光半透過部2とで構成し、かつ、この光半透過部2を通過する光の位相をシフトさせて該光半透過部2を通過した光の位相と光透過部4を通過した光の位相とを異ならしめることにより、光透過部4と光半透過部2との境界部近傍を通過した光が互いに打ち消しあうようにして境界部のコントラストを良好に保持できるようにした位相シフトマスクであって、光半透過部2を、酸素、モリブデン及びシリサイドを主たる構成元素とする物質からなる薄膜で構成した。
請求項（抜粋）：
微細パターン露光を施すためのマスクであって、透明基板上に形成するマスクパターンを、実質的に露光に寄与する強度の光を透過させる光透過部と実質的に露光に寄与しない強度の光を透過させる光半透過部とで構成し、かつ、この光半透過部を通過する光の位相をシフトさせて該光半透過部を通過した光の位相と前記光透過部を通過した光の位相とを異ならしめることにより、前記光透過部と光半透過部との境界部近傍を通過した光が互いに打ち消しあうようにして境界部のコントラストを良好に保持できるようにした位相シフトマスクであって、前記光半透過部を、酸素、金属及びシリコンを主たる構成要素とする物質からなる薄膜で構成したことを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
