特許
J-GLOBAL ID：200903082451891750
液体処理方法及び液体処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
小谷 悦司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-272146
公開番号（公開出願番号）：特開2000-093967
出願日： 1998年09月25日
公開日（公表日）： 2000年04月04日
要約：
【要約】【課題】 従来の液体処理装置では、プラズマを発生させる為に非常に高い電圧を必要とし、エネルギーコストが高くなるという問題がある。そこで、印加電力量を低減すべく印加電圧値を低く抑え、被処理液を電気化学的に効率良く浄化殺菌処理することのできる処理方法及び装置を提供することを目的とする。【解決手段】 管型電極12から気体を処理槽16内に注入して、気泡17を形成する。これにより電極11,12間は被処理液10と共に気体が介在した状態となる。蓋電極11と管型電極12の間に印加する高電圧パルスは、低い電圧であってもプラズマを発生し、被処理液10が電気化学的に処理される。
請求項（抜粋）：
アノード電極とカソード電極に電圧を印加して、該アノード電極とカソード電極間に存在する被処理液を電気化学的に処理する液体処理方法において、前記アノード電極と前記カソード電極間に気体を介在させることを特徴とする液体処理方法。
Fターム (15件)：
4D061AA08
, 4D061AB01
, 4D061AB15
, 4D061AB18
, 4D061AC03
, 4D061AC06
, 4D061AC08
, 4D061BA13
, 4D061BB01
, 4D061BB04
, 4D061BB07
, 4D061BB16
, 4D061BB34
, 4D061BD03
, 4D061BD06
