光磁気記録媒体およびその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-029081
公開番号（公開出願番号）：特開2000-228042
出願日： 1999年02月05日
公開日（公表日）： 2000年08月15日
要約：

【要約】【課題】近接場光磁気記録に適したSNRが大きく、記録パワーマージンが広く、高い信頼性の光磁気記録媒体を提供する。【解決手段】基板上に少なくとも第1の反射層、第1の誘電体層、第2の反射層、記録層および第2の誘電体層をこの順に積層してなる構成とした。

請求項（抜粋）：

基板上に少なくとも第1の反射層、第1の誘電体層、第2の反射層、記録層および第2の誘電体層をこの順に積層してなることを特徴とする光磁気記録媒体。

IPC (5件)：

G11B 11/10 523 , G11B 11/10 506 , G11B 11/10 , G11B 11/10 521 , G11B 11/10 541

FI (5件)：

G11B 11/10 523 , G11B 11/10 506 D , G11B 11/10 506 Z , G11B 11/10 521 C , G11B 11/10 541 C

Fターム (7件)：

5D075EE03 , 5D075FF12 , 5D075FG01 , 5D075FG02 , 5D075FG10 , 5D075GG03 , 5D075GG16

引用特許：

審査官引用 (5件)

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