特許
J-GLOBAL ID：200903082458502422

DDR型ゼオライト膜の製造方法

発明者：
中山 邦雄

中山 邦雄 について

, 
吉田 学

吉田 学 について

, 
富田 俊弘

富田 俊弘 について


出願人/特許権者：
日本碍子株式会社

日本碍子株式会社 について


代理人 (1件)： 渡邉 一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-219135
公開番号（公開出願番号）：特開2003-159518
出願日： 2002年07月29日
公開日（公表日）： 2003年06月03日
要約：
【要約】【課題】 工業的なガス分離プロセス等にも好適に採用され得る膜厚を有するDDR型ゼオライト膜を簡便に、かつ、短期間で製造する方法を提供する。【解決手段】 1-アダマンタンアミンとシリカとの含有割合(1-アダマンタンアミン/SiO2)がモル比率で0.03〜0.4、水とシリカとの含有割合(水/SiO2)がモル比率で20〜500、更にエチレンジアミンと1-アダマンタンアミンとの含有割合(エチレンジアミン/1-アダマンタンアミン)がモル比率で5〜32である原料溶液と、種結晶となるDDR型ゼオライト粉末とを用いて、水熱合成することによりDDR型ゼオライト膜を形成する。
請求項（抜粋）：
1-アダマンタンアミンとシリカとの含有割合(1-アダマンタンアミン/SiO2)がモル比率で0.03〜0.4、水と前記シリカとの含有割合(水/SiO2)がモル比率で20〜500、更にエチレンジアミンと前記1-アダマンタンアミンとの含有割合(エチレンジアミン/1-アダマンタンアミン)がモル比率で5〜32である原料溶液と、種結晶となるDDR型ゼオライト粉末とを用いて、水熱合成することによりDDR型ゼオライト膜を形成することを特徴とするDDR型ゼオライト膜の製造方法。
IPC (5件)：
B01D 71/02 500 ,  B01D 69/04 ,  B01D 69/06 ,  B01D 69/12 ,  C01B 37/02
FI (5件)：
B01D 71/02 500 ,  B01D 69/04 ,  B01D 69/06 ,  B01D 69/12 ,  C01B 37/02
Fターム (39件)：
4D006GA25 ,  4D006GA41 ,  4D006HA26 ,  4D006HA41 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MA04 ,  4D006MA06 ,  4D006MA09 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MC03 ,  4D006MC03X ,  4D006MC04 ,  4D006NA46 ,  4D006NA51 ,  4D006PA01 ,  4D006PB18 ,  4D006PB64 ,  4D006PB68 ,  4D006PC69 ,  4G073BB07 ,  4G073BB08 ,  4G073BB12 ,  4G073BB14 ,  4G073BB43 ,  4G073BB45 ,  4G073BD06 ,  4G073BD18 ,  4G073CZ54 ,  4G073FB11 ,  4G073FB30 ,  4G073FC12 ,  4G073FC25 ,  4G073FC30 ,  4G073GA03 ,  4G073GA19 ,  4G073GB02 ,  4G073UB40
引用特許：
審査官引用 (3件)
引用文献：
審査官引用 (1件)

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