特許
J-GLOBAL ID：200903082482715097

プラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法

発明者：
大國 充弘

大國 充弘 について


出願人/特許権者：
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (6件)： 前田 弘 ,  小山 廣毅 ,  竹内 宏 ,  竹内 祐二 ,  今江 克実 ,  原田 智雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-066692
公開番号（公開出願番号）：特開2005-259836
出願日： 2004年03月10日
公開日（公表日）： 2005年09月22日
要約：
【課題】 プラズマエッチングにおいて、チャンバー内壁を構成する絶縁材料が削られることを防止しながら、チャンバー内における反応生成物の残留に起因するパーティクル発生を抑制できるようにする。 【解決手段】 減圧可能なチャンバー1の内部に、ウェハ支持部を兼ねる電極2が設けられている。天板7の上面つまりチャンバー1の外壁面に近接するように、ウェハ3をエッチングするためのプラズマをチャンバー1の内部に発生させるICPコイル5が設けられている。ICPコイル5には高周波電源6から高周波電力が供給される。ICPコイル5と天板7との間に第1のFS電極8及び第2のFS電極9が挿入されている。第1のFS電極8及び第2のFS電極9にはそれぞれ高周波電源10及び高周波電源11から高周波電力が独立に印加される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
減圧可能なチャンバーと、 前記チャンバーの内部に設けられ且つ基板を載置する基板支持部と、 前記チャンバーの外部における前記チャンバーの近傍に設けられ且つ前記チャンバーの内部にエッチングガスからなるプラズマを生成するための高周波電力が印加される第1の電極と、 前記チャンバーと前記第1の電極との間に設けられ且つそれぞれ独立に高周波電力が印加される複数の分割電極からなる第2の電極とを備えていることを特徴とするプラズマエッチング装置。
IPC (2件)：
H01L21/3065 ,  H01L27/105
FI (2件)：
H01L21/302 101C ,  H01L27/10 444C
Fターム (22件)：
5F004AA13 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB13 ,  5F004CA02 ,  5F004CA03 ,  5F004CA04 ,  5F004DA04 ,  5F004DA26 ,  5F004DB08 ,  5F083FR01 ,  5F083GA27 ,  5F083JA15 ,  5F083JA17 ,  5F083JA36 ,  5F083JA38 ,  5F083JA39 ,  5F083JA40 ,  5F083JA43 ,  5F083MA06 ,  5F083MA17 ,  5F083PR03
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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