特許
J-GLOBAL ID:200903082491505755

窒素ガスの製造方法および製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-345357
公開番号(公開出願番号):特開2003-119009
出願日: 2001年10月09日
公開日(公表日): 2003年04月23日
要約:
【要約】【課題】 PAS方式の場合、装置が大形で電磁弁等の装置のメンテナンスに難点があり、膜分離方式の場合、高純度のニーズには適せず、深冷分離方式の場合、高純度の窒素が得られるが大規模な設備が必要であった。【解決手段】 圧縮空気を送り込むことで窒素ガスを残存させる中空糸膜40と、残存した前記窒素ガスを送り込むことで前記窒素ガスを高純度にする鉄粉を形成した脱酸素室50より構成した。
請求項(抜粋):
圧縮空気を鉄粉に接触させることで酸化鉄とし、それによって前記圧縮空気中の酸素を減少させることで窒素ガスを残存させることを特徴とする窒素ガスの製造方法。
IPC (5件):
C01B 21/04 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/64 ,  B01J 20/02 ,  B01J 27/10
FI (5件):
C01B 21/04 V ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/64 ,  B01J 20/02 A ,  B01J 27/10 M
Fターム (30件):
4D006GA41 ,  4D006KA01 ,  4D006KA02 ,  4D006KA03 ,  4D006KA72 ,  4D006KB30 ,  4D006KD02 ,  4D006KE12Q ,  4D006MA01 ,  4D006MB03 ,  4D006MC22 ,  4D006MC23 ,  4D006MC58 ,  4D006PA02 ,  4D006PB17 ,  4D006PB62 ,  4D006PB63 ,  4G066AA02B ,  4G066AA14D ,  4G066AA35D ,  4G066CA37 ,  4G066DA03 ,  4G069AA02 ,  4G069BB08A ,  4G069BB08B ,  4G069BC02A ,  4G069BC02B ,  4G069BC03B ,  4G069CB81 ,  4G069DA06
引用特許:
審査官引用 (1件)

前のページに戻る