特許

J-GLOBAL ID：200903082597033950

表面洗浄方法もしくは表面改質方法

発明者： 平本 立躬 ,  五十嵐 龍志 ,  松野 博光 ,  松島 竹夫
出願人/特許権者： ウシオ電機株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-095092
公開番号（公開出願番号）：特開平6-287784
出願日： 1993年03月31日
公開日（公表日）： 1994年10月11日
要約：

【要約】【目的】 有機物の除去速度が大きく、精密洗浄に適した表面洗浄方法を提供する。【構成】 過酸化水素の蒸気もしくは過酸化水素水と紫外光とを組み合わせて被処理物の表面を洗浄する。更に、過酸化水素の蒸気にオゾンを混合しておくかもしくは過酸化水素水にオゾンを溶解しておいて、そのうえで紫外光と組み合わせて被処理物の表面を洗浄する。

請求項（抜粋）：

被処理物の表面を、過酸化水素の蒸気、もしくは過酸化水素の蒸気とオゾンの混合ガス、もしくは過酸化水素水、もしくはオゾンを溶解した過酸化水素水に接触させておいたうえで紫外線を照射しこれらを活性化して、該表面の不要有機物を除去することを特徴とする表面洗浄方法。

IPC (6件)：

C23G 5/00 ,  B01J 19/12 ,  B05C 9/12 ,  B08B 3/08 ,  C01B 15/00 ,  C08J 7/00 304

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特表平4-504594
  
• 光洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-120756   出願人：大日本印刷株式会社
• 特開平4-059042