フォトレジスト供給装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三枝英二 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-276526
公開番号（公開出願番号）：特開2000-269129
出願日： 1999年09月29日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
要約：

【要約】【課題】容器内のフォトレジスト液を全て使い切ることができると共に、フォトレジスト液における不純物を完全に除去することができ、かつフィルターの寿命を向上させたフォトレジスト供給装置を提供する。【解決手段】不活性ガス16により加圧してフォトレジスト11を供給するフォトレジスト供給装置において、最も低い位置に供給端23を有するフォトレジスト収納容器12と、フォトレジスト収納容器12の供給端23に接続され、不活性ガス16の圧力をフォトレジスト収納容器12に作用させることによって供給されたフォトレジスト11の不純物を除去するフィルター21とを有することを特徴とするフォトレジスト供給装置。

請求項（抜粋）：

不活性ガスにより加圧してフォトレジストを供給するフォトレジスト供給装置において、最も低い位置に供給端を有するフォトレジスト収納容器と、前記フォトレジスト収納容器の前記供給端に接続され、前記不活性ガスの圧力をフォトレジスト収納容器に作用させることによって供給された前記フォトレジストの不純物を除去するフィルターとを有することを特徴とするフォトレジスト供給装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , B05C 11/10 , G03F 7/16

FI (3件)：

H01L 21/30 564 Z , B05C 11/10 , G03F 7/16

Fターム (8件)：

2H025AB16 , 2H025EA04 , 4F042AA06 , 4F042AB00 , 4F042CA01 , 4F042CB03 , 4F042CB25 , 5F046JA03

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平3-046222
高粘性コーテイング剤の滴下装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-306035 出願人：川崎製鉄株式会社
特開昭61-294822

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