特許

J-GLOBAL ID：200903082610964267

洗浄装置

発明者： 高橋 勝洋
出願人/特許権者： イビデン株式会社
代理人 (1件)： 高橋 祥泰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-171089
公開番号（公開出願番号）：特開平7-000927
出願日： 1993年06月16日
公開日（公表日）： 1995年01月06日
要約：

【要約】細部の洗浄性に優れ,洗浄液の使用量が少なく,また有害物,高価物の回収も容易な洗浄装置を提供すること。【構成】 洗浄タンク1と,被洗浄物6を洗浄タンク1内に送入し,送出するための移送装置(ローラ22,23)と,洗浄タンク1内において上記被洗浄物6に向けて液体とガスとの混合物よりなる霧状の噴霧液30を噴射する噴霧ノズル3と,上記洗浄タンク1に連結された排気装置4とよりなる排気装置4には,ミストキャッチャー42を設けることが好ましい。メッキ後のプリント配線基板の洗浄に特に効果を発揮する。

請求項（抜粋）：

洗浄タンクと,被洗浄物を洗浄タンク内に送入,送出するための移送装置と,洗浄タンク内において上記被洗浄物に向けて液体とガスとの混合物よりなる霧状の噴霧液を噴射する噴霧ノズルと,上記洗浄タンクに連結された排気装置とよりなることを特徴とする洗浄装置。

IPC (2件)：

B08B 3/10 ,  H05K 3/26

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-179186   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平2-218481
  
• 特開平3-263831
  
• 特開昭61-222578