特許

J-GLOBAL ID：200903082626793586

遺伝子導入法及び組換え体

発明者： 大宮 邦雄 ,  粟冠 和郎 ,  木村 哲哉 ,  森本 兼司
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団 ,  三重大学長
代理人 (1件)： 北川 治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-300114
公開番号（公開出願番号）：特開2003-102481
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2003年04月08日
要約：

【要約】【課題】 いわゆるエレクトロポレーション法の一種であって、目的とする組換え体を高効率に取得することができる新規な遺伝子導入法を提供する。【解決手段】 鋳型遺伝子と宿主細胞とを懸濁させた媒体にパルス電圧を作用させ、前記鋳型遺伝子を宿主細胞内に導入する遺伝子導入法において、前記媒体を低分子非電解質、例えば好ましくは低分子の糖類の所定濃度の溶液とすることにより、媒体の無塩化と浸透圧調節とを同時に行い、このような媒体に鋳型遺伝子と宿主細胞とを懸濁させてパルス電圧を作用させる。

請求項（抜粋）：

遺伝子と宿主細胞とを懸濁させた媒体にパルス電圧を作用させ、前記遺伝子を宿主細胞内に導入する遺伝子導入法において、前記媒体を低分子非電解質の所定濃度の溶液とすることにより、媒体の無塩化と浸透圧調節とを行うことを特徴とする遺伝子導入法。

IPC (3件)：

C12N 15/09 ZNA ,  C12N 1/21 ,  C12R 1:145

FI (3件)：

C12N 1/21 ,  C12R 1:145 ,  C12N 15/00 ZNA A

Fターム (12件)：

4B024AA20 ,  4B024CA04 ,  4B024DA05 ,  4B024EA04 ,  4B024FA10 ,  4B024GA14 ,  4B065AA23X ,  4B065AA99Y ,  4B065AB01 ,  4B065BA03 ,  4B065BA10 ,  4B065CA46