特許

J-GLOBAL ID：200903082664580928

基板処理装置、基板処理装置の汚染抑制方法及び記憶媒体

発明者： 宮下 哲也 ,  平田 俊治 ,  原 正道
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-233604
公開番号（公開出願番号）：特開2009-065068
出願日： 2007年09月10日
公開日（公表日）： 2009年03月26日
要約：

【課題】搬送室内の汚染を軽減し、メンテナンス頻度の減少を図ることが可能な基板処理システムを提供すること。【解決手段】被処理基板に対して処理を行う処理チャンバ22及び23と、処理チャンバ22及び23に接続され、内部が処理チャンバ22及び23の処理圧力と適合した圧力に調整可能な搬送室21と、搬送室21内に設けられ、被処理基板を処理チャンバ22及び23に対して搬入出する搬送機構26と、搬送室21内を、この搬送室21内に処理チャンバ22及び23からの放出物が付着しない温度に加熱する加熱機構71と、搬送室21内を排気する排気機構54と、を具備する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

被処理基板に対して処理を行う複数の処理チャンバと、 前記複数の処理チャンバに接続され、内部が前記複数の処理チャンバの処理圧力と適合した圧力に調整可能な搬送室と、 前記搬送室内に設けられ、前記被処理基板を前記複数の処理チャンバに対して搬入出する搬送機構と、 前記搬送室内を、この搬送室内に前記複数の処理チャンバからの放出物が付着しない温度に加熱する加熱機構と、 前記搬送室内を排気する排気機構と、 を具備することを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/677 ,  H01L 21/205 ,  C23C 14/56 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/02

FI (5件)：

H01L21/68 A ,  H01L21/205 ,  C23C14/56 G ,  C23C16/44 F ,  H01L21/02 Z

Fターム (47件)：

4K029AA06 ,  4K029AA24 ,  4K029BA01 ,  4K029CA05 ,  4K029DC02 ,  4K029FA06 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09 ,  4K030AA03 ,  4K030AA13 ,  4K030BA18 ,  4K030BA38 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030GA12 ,  4K030HA02 ,  4K030KA45 ,  4K030LA15 ,  5F031CA02 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA03 ,  5F031GA40 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031MA04 ,  5F031MA06 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031NA07 ,  5F031PA06 ,  5F031PA11 ,  5F031PA23 ,  5F045AA03 ,  5F045AF01 ,  5F045BB14 ,  5F045DP02 ,  5F045DQ10 ,  5F045DQ17 ,  5F045EB08

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開平3-19252号公報
  
• 複合型真空処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-087461   出願人：日本真空技術株式会社