特許
J-GLOBAL ID：200903082668828355
セラミックリブ及びこれを有するFPD
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須田 正義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-356790
公開番号（公開出願番号）：特開2002-197980
出願日： 1998年11月06日
公開日（公表日）： 2002年07月12日
要約：
【要約】【課題】 少ない工程で材料の無駄なく、簡便にかつ精度良くセラミックキャピラリリブを形成する。【解決手段】 ペーストを基板10表面に塗布してペースト膜11を形成し、ブレード12周辺の少なくとも一部に形成されたくし歯12bをペースト膜11につき刺した状態でブレード12又は基板10を一定方向に移動させ、基板表面にセラミックキャピラリリブ13を形成する。ペーストがガラス粉末又はガラス・セラミック混合粉末30〜95重量%と有機バインダ0.3〜15重量%と、溶剤と可塑剤と分散剤3〜70重量%を含み、基板上のセラミックリブは、アスペクト比が2〜10であることが好ましい。ブレードのピッチP隙間w深さh野関係は0.03mm≦h≦1.0mmでありw/P≦0.9が良く、基板表面から浮上させれば絶縁層上にリブを形成できる。
請求項（抜粋）：
ペーストを基板(10)表面に塗布することにより形成されたペースト膜(11)にブレード(12)のくし歯(12b)をつき刺して前記くし歯(12b)の先端エッジ(12a)を前記基板(10)表面に接触させた状態で前記ブレード(12)又は前記基板(10)を一定方向に移動することにより前記ペースト膜(11)の一部を掃き取って形成されたセラミックキャピラリリブ(13)を焼成して前記基板(10)表面に直接形成されたセラミックリブ(14)であって、前記リブ(14)の高さをHとし、高さ(1/2)Hのところのリブの幅をWC、高さ(3/4)Hのところのリブの幅をWM及び高さ(9/10)Hのところのリブの幅をWTとするとき、前記H、WC、WM及びWTのそれぞれの(最大値又は最小値-平均値)/平均値で表されるばらつきが5%以下であって、H/WCで表されるアスペクト比が2〜10であることを特徴とするセラミックリブ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J 11/02 B
, H01J 9/02 F
5C027AA09
, 5C040GF02
, 5C040GF12
, 5C040GF18
, 5C040GF19
, 5C040JA20
, 5C040KA07
, 5C040KB03
, 5C040KB19
, 5C040KB28
, 5C040LA17
, 5C040MA24
, 5C040MA26
