基板洗浄装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：羽切正治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-019751
公開番号（公開出願番号）：特開平10-209103
出願日： 1997年01月17日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：

【要約】【課題】洗浄対象たる基板の汚染及び酸化をほぼ完全に防止し得、しかも装置の製造及び運営のコストが安い基板洗浄装置を提供すること。【解決手段】回転する基板7上に流下する洗浄用流体15を覆うように不活性気体17を供給し、以て浮遊物質に対するシールとなし、前記の効果を得る。

請求項（抜粋）：

基板を保持して回転させる回転手段と、前記基板の主たる面に洗浄用流体を流下させる流体供給手段とを備え、流下する前記洗浄用流体を覆うように不活性気体を供給する気体供給手段を有することを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 351

FI (2件)：

H01L 21/304 341 N , H01L 21/304 351 S

引用特許：

審査官引用 (2件)

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