特許
J-GLOBAL ID：200903082790811404
シリコン結晶炭素濃度測定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
赤野 牧子 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-112001
公開番号（公開出願番号）：特開平9-283584
出願日： 1996年04月09日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：
【要約】【課題】 フーリエ変換赤外分光法を用い、シリコン単結晶中の置換型炭素濃度を簡便に、且つ、低濃度でもより正確に精度よく測定する。【解決手段】 フーリエ変換赤外分光法によるシリコン結晶中の炭素濃度の測定において、被測定シリコン結晶より含有酸素が低濃度のカーボンフリー標準試料を用いて測定することを特徴とするシリコン結晶低炭素濃度測定方法。被測定シリコン結晶の含有炭素濃度が、約5×1015atoms/cm3 以下の低濃度ものも好適に適用できる。カーボンフリー標準試料として、CZ法で得られるシリコン単結晶の酸素濃度1×1018atoms/cm3 より低い含有酸素濃度のものを用いる。
請求項（抜粋）：
フーリエ変換赤外分光法によるシリコン結晶中の炭素濃度の測定において、被測定シリコン結晶より含有酸素が低濃度のカーボンフリー標準試料を用いて測定することを特徴とするシリコン結晶低炭素濃度測定方法。
IPC (3件)：
H01L 21/66
, G01N 21/01
, G01N 21/35
H01L 21/66 N
, G01N 21/01 A
, G01N 21/35 Z
