特許
J-GLOBAL ID：200903082807625502

投影露光装置および露光方法

発明者：
村山 正幸

村山 正幸 について

, 
今井 裕二

今井 裕二 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 森岡 正樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-293404
公開番号（公開出願番号）：特開平11-121355
出願日： 1997年10月09日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：
【要約】【課題】照明領域や照明条件の変更に伴って投影光学系のイメージフィールド内の光強度分布が変化しても、常に最適な露光動作ができる投影露光装置および露光方法を提供することを目的とする。【解決手段】所定の照明光を射出する光源12と、パターンが形成されたレチクルRを照明する照明系内に設けられ、レチクルRを照明する照明条件を変更する開口絞り部4と、パターンの像を基板W上に投影する投影光学系PLと、基板Wを保持して2次元平面内で移動可能な基板ステージWST上に設けられ、基板ステージWSTを移動させて投影光学系PLのイメージフィールド内の光強度を計測する照度計100と、照明条件毎の光強度分布が所定の許容値内に入るように照明系内の光学部材12、22、26、30の位置を補正する補正手段8、50、52を備えている。
請求項（抜粋）：
所定のエネルギ線を射出するエネルギ源を有し、パターンが形成されたレチクルを照明する照明系と、前記レチクル上の照明領域を規定するブラインド部と、前記パターンの像を基板上に投影する投影系と、前記基板を保持して2次元平面内で移動可能な基板ステージと、前記基板ステージ上に設けられたエネルギ入力部を有し、前記基板ステージを移動させて前記投影系のイメージフィールド内の強度分布を測定する強度分布測定系と、前記ブラインドにより規定される照明領域毎の前記強度分布が所定の許容値内に入るように前記照明系内の部材の位置を補正する補正手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 516 C ,  H01L 21/30 515 D
引用特許：
審査官引用 (3件)

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