特許

J-GLOBAL ID：200903082868808928

光学活性ヒドロキシメチル化化合物の製法

発明者： 小林 修 ,  眞鍋 敬
出願人/特許権者： 独立行政法人科学技術振興機構
代理人 (2件)： 下田 昭 ,  赤尾 謙一郎
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2005001086
公開番号（公開出願番号）：WO2005-073156
出願日： 2005年01月27日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：

【課題】 不斉ヒドロキシメチル化反応が高い不斉選択性で進行する触媒、及びその触媒を用いた光学活性ヒドロキシメチル化化合物の製法を提供する。 【解決手段】 キラル配位子(例えば、化4)【化4】とスカンジウムトリフラート等とを混合させてなる触媒を用いることにより、ケイ素エノラートとホルムアルデヒドとの反応において光学活性ヒドロキシメチル化化合物が高い不斉選択性で得られる。 【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

水溶液中又は水と有機溶媒との混合溶媒中で下式(化1)

IPC (11件)：

C07C 45/00 ,  C07C 49/245 ,  C07C 49/24 ,  C07C 49/248 ,  C07C 49/497 ,  C07C 49/513 ,  C07C 49/507 ,  C07C 49/503 ,  C07F 7/18 ,  C07B 53/00 ,  B01J 31/22

FI (11件)：

C07C45/00 ,  C07C49/245 ,  C07C49/24 ,  C07C49/248 ,  C07C49/497 ,  C07C49/513 ,  C07C49/507 ,  C07C49/503 ,  C07F7/18 H ,  C07B53/00 B ,  B01J31/22 Z

Fターム (73件)：

4G169AA06 ,  4G169BA21C ,  4G169BA27A ,  4G169BA27B ,  4G169BA44A ,  4G169BB08C ,  4G169BC26A ,  4G169BC26C ,  4G169BC31A ,  4G169BC31C ,  4G169BC35A ,  4G169BC35C ,  4G169BC39A ,  4G169BC39B ,  4G169BC39C ,  4G169BC41A ,  4G169BC41C ,  4G169BC66A ,  4G169BC66C ,  4G169BD07A ,  4G169BD07C ,  4G169BD12A ,  4G169BD12C ,  4G169BD15A ,  4G169BD15C ,  4G169BE08C ,  4G169BE16A ,  4G169BE16B ,  4G169BE16C ,  4G169BE22C ,  4G169BE34C ,  4G169BE40A ,  4G169BE40B ,  4G169BE45A ,  4G169CB57 ,  4G169CB70 ,  4G169FA01 ,  4G169FB14 ,  4G169FB46 ,  4G169FB57 ,  4H006AA02 ,  4H006AC14 ,  4H006AC21 ,  4H006AC22 ,  4H006AC41 ,  4H006AC44 ,  4H006AC80 ,  4H006AC81 ,  4H006BA08 ,  4H006BA47 ,  4H006BA81 ,  4H006BB12 ,  4H006BB15 ,  4H006BB31 ,  4H039CA19 ,  4H039CA60 ,  4H039CA62 ,  4H039CD10 ,  4H039CF30 ,  4H039CJ10 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ24 ,  4H049VR23 ,  4H049VR41 ,  4H049VS20 ,  4H049VT07 ,  4H049VT49 ,  4H049VV03 ,  4H049VV16 ,  4H049VV20 ,  4H049VW31 ,  4H049VW34