特許
J-GLOBAL ID：200903082969863067

光走査装置

発明者：
大野 光浩

大野 光浩 について


出願人/特許権者：
富士写真光機株式会社

富士写真光機株式会社 について


代理人 (2件)： 三反崎 泰司 ,  藤島 洋一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-165645
公開番号（公開出願番号）：特開2004-012776
出願日： 2002年06月06日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：
【課題】シリンドリカルミラーの位置ずれを防止し、被走査面上におけるレーザ光の走査パターンのずれを防止可能な光走査装置を提供する。【解決手段】光学ベース1の下面側に、この光学ベース1と一体をなす支持リブ1Pを設け、この支持リブ1Pによりシリンドリカルミラー90Cを下方から支持する。変形しにくい支持リブ1Pによりシリンドリカルミラー90Cの重量が支えられるため、変形しやすい部材によりシリンドリカルミラー90Cが支持されている場合とは異なり、実装後において、シリンドリカルミラー90Cの重量により支持リブ1Pが変形しにくくなる。シリンドリカルミラー90Cの位置ずれが防止されるため、シリンドリカルカルミラー90Cにより反射されたレーザ光が被走査面上の正しい位置に到達することとなり、被走査面上におけるレーザ光の走査パターンのずれが防止される。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
被走査面を走査する光ビームを出射する光源と、前記光源から出射された光ビームを偏向させる光偏向器と、前記光偏向器により偏向された光ビームを前記被走査面に向けて反射させる反射面を有する反射ミラーと、少なくとも前記反射ミラーを支持する基体とを備え、前記反射ミラーが前記基体の下面側に配設された光走査装置であって、 前記基体の下面側に、前記反射ミラーを下方から支持する支持部が前記基体と一体に設けられている ことを特徴とする光走査装置。
IPC (5件)：
G02B26/10 ,  B41J2/44 ,  G02B7/182 ,  H04N1/036 ,  H04N1/113
FI (7件)：
G02B26/10 F ,  G02B26/10 B ,  G02B26/10 101 ,  H04N1/036 Z ,  G02B7/18 Z ,  B41J3/00 D ,  H04N1/04 104A
Fターム (29件)：
2C362BA87 ,  2C362BA90 ,  2H043CA03 ,  2H043CA08 ,  2H043CE00 ,  2H045BA22 ,  2H045BA34 ,  2H045DA02 ,  5C051AA02 ,  5C051CA07 ,  5C051DB02 ,  5C051DB22 ,  5C051DB24 ,  5C051DC04 ,  5C051DC07 ,  5C051DE21 ,  5C051EA01 ,  5C051FA01 ,  5C072AA03 ,  5C072BA13 ,  5C072DA04 ,  5C072DA21 ,  5C072HA02 ,  5C072HA06 ,  5C072HA09 ,  5C072HA13 ,  5C072QA14 ,  5C072XA01 ,  5C072XA05
引用特許：
審査官引用 (8件)
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