特許
J-GLOBAL ID：200903083008318865
サーマルヘッドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中尾 俊輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-121561
公開番号（公開出願番号）：特開平9-300680
出願日： 1996年05月16日
公開日（公表日）： 1997年11月25日
要約：
【要約】【課題】 フォトリソ精度を高め、発熱抵抗体の抵抗値のばらつきを低減させることができるとともに、サーマルヘッドのリアルエッジ化を図ることのできるサーマルヘッドの製造方法を提供すること。【解決手段】 複数の凸条部1aおよび凹条部1bが形成された基板1に積層形成された保温層2上に、発熱抵抗体4のパターンおよび各電極5a,5bのパターンを、超微粒子としたフォトレジスト7aに高電圧を印加し、接地電極11上に載置した基板2の表面に静電塗布して形成されたレジスト膜12をエッチングマスクとして用いたフォトリソ加工により形成すること。
請求項（抜粋）：
凸条部および凹条部が形成された基板上に保温層を形成し、前記保温層上に発熱抵抗体を積層形成し、前記発熱抵抗体および保温層上に共通電極および個別電極を形成し、これらの上面に保護層を形成するサーマルヘッドの製造方法であって、超微粒子のフォトレジストに高電圧を印加し、接地電極上に載置した基板の表面にフォトレジスト膜を静電塗布し、この形成されたフォトレジスト膜をエッチングマスクとしてフォトリソ加工を行なうことにより前記発熱抵抗体および電極のパターンを形成することを特徴とするサーマルヘッドの製造方法。
FI (3件)：
B41J 3/20 111 H
, B41J 3/20 111 J
, B41J 3/20 111 E
