特許

J-GLOBAL ID：200903083021450322

異方性エッチング方法

発明者： マイケル・ディー・アーマコスト ,  デヴィッド・エム・ドバジンジスキー ,  ジョン・シー・マリノウスキー ,  ハング・ワイ・ング ,  リチャード・エス・ワイズ ,  チーンファン・ユー
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 坂口 博 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-015368
公開番号（公開出願番号）：特開平11-260798
出願日： 1999年01月25日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：

【要約】【課題】 基板上の窒化物層を異方性エッチングする方法を提供する。【解決手段】 本発明のエッチング・プロセスは、水素リッチのフルオロハイドロカーボン,オキシダント,カーボン・ソースを含むエッチャント・ガスを用いる。水素リッチのフルオロハイドロカーボンは、好ましくはCH3 またはCH2F2 であり、カーボン・ソースは、好ましくはCO2 またはCOであり、オキシダントは好ましくはO2 である。フルオロハイドロカーボンは、好ましくは約7〜35体積%でガス中に存在し、オキシダントは、好ましくは約1〜35体積%でガス中に存在し、カーボン・ソースは、好ましくは約30〜92体積%でガス中に存在する。

請求項（抜粋）：

基板上の窒化物層を異方性エッチングする方法であって、水素リッチのフルオロハイドロカーボン,オキシダント,およびカーボン・ソースを含むエッチャント・ガスでエッチングすることを特徴とする異方性エッチング方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 窒化物エッチングプロセス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-011548   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド, インテル・コーポレーション
• 特開昭60-115232
  
• 特開平3-259518