特許

J-GLOBAL ID：200903083054484192

レジスト組成物

発明者： 松野 修吾 ,  田中 秀行 ,  阿部 信紀 ,  和田 泰昌 ,  杉本 達也
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-196082
公開番号（公開出願番号）：特開平8-044063
出願日： 1994年07月28日
公開日（公表日）： 1996年02月16日
要約：

【要約】【目的】 新規な感放射線性レジスト組成物を提供する。【構成】 主鎖にカルボキシル基を有するポリマーにフェニル基を介して酸不安定性基を導入した重合体と感放射線成分とを含有するレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】(式中、R<SP>1</SP>、R<SP>3</SP>はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜4の置換可アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基であり、R<SP>2</SP>は水素原子、次式(2)、【化2】次式(3)、【化3】次式(4)、【化4】次式(5)【化5】(式(2)〜(5)中、R<SP>5</SP>〜R<SP>7</SP>、R<SP>10</SP>、R<SP>13</SP>、R<SP>14</SP>はそれぞれ独立に炭素数1〜8の直鎖状、分岐状または環状の置換可アルキル基もしくはアリール基を表し、R<SP>8</SP>、R<SP>9</SP>、R<SP>11</SP>、R<SP>12</SP>は水素原子、炭素数1〜8の直鎖状、分岐状または環状の置換可アルキル、置換可アリール基である。なお、R<SP>5</SP>とR<SP>6</SP>、R<SP>8</SP>とR<SP>10</SP>はそれぞれ結合して環を形成していても良い。)であり、R<SP>4</SP>は次式(6)、【化6】次式(7)【化7】(式(6)、(7)中R<SP>15</SP>は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、カルボキシル基、炭素数1〜8の直鎖、分岐または環状の置換可アルコキシ基、アルコキシカルボニル基もしくはアルコキシカルボニルメチルオキシ基であり、R<SP>16</SP>は水素原子、炭素数1〜8の置換可アルキル基、置換可アリール基である。)であり、kおよびmは重合体中の各構成単位のモル分率を示し、k+m=1、0<k≦1、0≦m<1である。)で表される構造単位を有する重合体と感放射線性成分とを含むレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭62-038454
  
• 特開昭62-039603
  
• 特にフォトレジストのためのマレイミドコポリマー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-335601   出願人：チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト, オーシージーマイクロエレクトロニックマテリアルズアクチエンゲゼルシヤフト