特許
J-GLOBAL ID：200903083088982051
光記録媒体およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
杉浦 正知
, 森 幸一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-030114
公開番号（公開出願番号）：特開2004-265465
出願日： 2003年02月06日
公開日（公表日）： 2004年09月24日
要約：
【課題】400nm以上410nm以下の範囲の波長にある光を、0.84以上0.86以下の範囲の開口数を有する光学系により集光し、保護層側から情報信号部に照射することにより、情報信号の記録および再生を行う光記録媒体において、良好な信号特性および高い信頼性を得ることができるようにする。【解決手段】基板2の一主面に、反射層3、下層誘電体層4、記録層5、上層電体層6、光透過層7を順次積層した構成を有する光記録媒体1において、下層誘電体層4を、第1の下層誘電体層および、第1の下層誘電体層を構成する材料と反射層3を構成する材料とが反応することを防止する第2の下層誘電体層から構成し、上層誘電体層を、第1の上層誘電体層および、第1の上層誘電体層を構成する材料と光透過層7を構成する材料とが反応することを防止する第2の上層誘電体層から構成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板の一主面に、少なくとも、反射層、下層誘電体層、記録層、上層電体層および光透過層が順次積層されて構成され、
400nm以上410nm以下の範囲の波長にある光を、0.84以上0.86以下の範囲の開口数を有する光学系により集光し、上記光透過層側から上記記録層に照射することにより、情報信号の記録および再生を行う光記録媒体であって、
下層誘電体層は、第1の下層誘電体層および、上記第1の下層誘電体層を構成する材料と反射層を構成する材料とが反応することを防止する第2の下層誘電体層からなり、
上層誘電体層は、第1の上層誘電体層および、上記第1の上層誘電体層を構成する材料と光透過層を構成する材料とが反応することを防止する第2の上層誘電体層からなる
ことを特徴とする光記録媒体。
IPC (2件)：
FI (11件)：
G11B7/24 535H
, G11B7/24 511
, G11B7/24 522A
, G11B7/24 534N
, G11B7/24 535C
, G11B7/24 535E
, G11B7/24 535G
, G11B7/24 535L
, G11B7/24 538E
, G11B7/24 538F
, G11B7/26 531
5D029JA01
, 5D029JB18
, 5D029JB35
, 5D029JB46
, 5D029LA17
, 5D029LB07
, 5D029LC03
, 5D029MA13
, 5D029MA14
, 5D029MA43
, 5D121AA01
, 5D121AA04
, 5D121AA05
, 5D121EE01
, 5D121EE27
, 5D121FF02
, 5D121FF03
