特許

J-GLOBAL ID：200903083143963991

半導体製造システム

発明者： 亀谷 桂一郎 ,  藤井 淳弘
出願人/特許権者： ダイキン工業株式会社 ,  三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-104209
公開番号（公開出願番号）：特開2000-296309
出願日： 1999年04月12日
公開日（公表日）： 2000年10月24日
要約：

【要約】【課題】 クリーンな乾燥空気を比較的安価に生成可能な半導体製造システムを得る。【解決手段】 乾式除湿機1における多孔性のハニカム構造に吸湿剤が固着された構造の除湿ローター20は、吸湿ゾーン22において、縦型拡散炉室28外の水分を含んだ多湿空気A1を通過させることにより、水分が除去されかつケミカルコンタミが除去されたクリーンな乾燥空気A2に変換して吸気ダクト11から縦型拡散炉室28内に導入するとともに、再生ゾーン21において縦型拡散炉室28で生じる廃熱空気A5を通過させることにより、乾式除湿機1の除湿機能を再生させている。

請求項（抜粋）：

水分を含んだ多湿空気の水分を除去して乾燥空気を生成する除湿機(1)を備え、前記除湿機は多孔性ハニカム構造体に吸湿剤を固着させた構造の除湿部(20)を含み、前記除湿部は前記多湿空気を通過させることにより前記多湿空気の水分を除去すると同時にケミカルコンタミをも除去したクリーンな乾燥空気を生成する除湿機能を有し、前記クリーンな乾燥空気を用いて所定の製造処理を行う半導体製造装置(28)をさらに備える、半導体製造システム。

IPC (4件)：

B01D 53/26 101 ,  F24F 1/00 ,  F24F 1/00 451 ,  H01L 21/02

FI (4件)：

B01D 53/26 101 B ,  F24F 1/00 451 ,  H01L 21/02 D ,  F24F 1/00 371

Fターム (22件)：

3L051BC10 ,  4D052AA00 ,  4D052AA08 ,  4D052CB01 ,  4D052DA01 ,  4D052DA06 ,  4D052DB01 ,  4D052FA01 ,  4D052GA01 ,  4D052GA04 ,  4D052GB00 ,  4D052GB01 ,  4D052GB02 ,  4D052GB03 ,  4D052GB04 ,  4D052GB08 ,  4D052GB09 ,  4D052HA01 ,  4D052HA03 ,  4D052HA14 ,  4D052HA21 ,  4D052HB02

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 空気浄化装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-173176   出願人：三機工業株式会社, 株式会社神戸製鋼所
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-076174   出願人：東京エレクトロン株式会社