特許

J-GLOBAL ID：200903083161548527

廃液回収機構付ウェーハ表面処理装置

発明者： 土屋 正人 ,  小笠原 俊一 ,  室岡 秀幸
出願人/特許権者： 三益半導体工業株式会社
代理人 (1件)： 石原 詔二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-073307
公開番号（公開出願番号）：特開2001-267278
出願日： 2000年03月16日
公開日（公表日）： 2001年09月28日
要約：

【要約】【課題】処理液及び洗浄液の種類に応じてそれぞれの廃液、特に3種類以上の廃液を連続的にかつ有効に分離回収することができ、従って生産効率を向上させることができ、さらには、100μm以下の非常に薄いウェーハをその外周部のみの接触で回転保持することができ、さらに超音波ジェットノズルによる洗浄やブラシ洗浄をも可能としたウェーハ回転保持装置を具備した廃液回収機構付ウェーハ表面処理装置を提供する。【解決手段】ウェーハ表面を処理液や洗浄液によって処理するウェーハ表面処理装置であって、表面処理されるウェーハを回転保持するウェーハ回転保持装置と該ウェーハ回転保持装置の周囲に上下動可能に設けられた廃液回収機構とを有し、該廃液回収機構が互いに上下動可能に設けられた複数個の環状廃液回収樋からなり、処理液及び洗浄液の種類によって複数個の環状廃液回収樋を使い分け、それぞれの廃液を分離回収するようにした。

請求項（抜粋）：

ウェーハ表面を処理液や洗浄液によって処理するウェーハ表面処理装置であって、表面処理されるウェーハを回転保持するウェーハ回転保持装置と該ウェーハ回転保持装置の周囲に上下動可能に設けられた廃液回収機構とを有し、該廃液回収機構が互いに上下動可能に設けられた複数個の環状廃液回収樋からなり、処理液及び洗浄液の種類によって複数個の環状廃液回収樋を使い分け、それぞれの廃液を分離回収するようにしたことを特徴とする廃液回収機構付ウェーハ表面処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 648 ,  B05C 11/10 ,  B08B 3/08 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/304 648 K ,  B05C 11/10 ,  B08B 3/08 Z ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/30 569 C

Fターム (27件)：

2H096CA14 ,  2H096GA29 ,  2H096HA19 ,  3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB34 ,  3B201AB42 ,  3B201BB22 ,  3B201BB33 ,  3B201BB93 ,  3B201BB96 ,  3B201BB98 ,  3B201CC01 ,  3B201CD11 ,  3B201CD22 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042CC03 ,  4F042CC09 ,  4F042DF09 ,  4F042DF32 ,  4F042EB07 ,  4F042EB09 ,  5F046JA05 ,  5F046JA08 ,  5F046LA06 ,  5F046LA07

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-191883   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 化学的機械研磨装置におけるプラテン上への研磨パッドの保持
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-221861   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 特開昭62-246445
  
• 特開昭57-181417
  

審査官引用 (4件)

• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-191883   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 化学的機械研磨装置におけるプラテン上への研磨パッドの保持
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-221861   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 特開昭62-246445
  
• 特開昭57-181417