光学要素及びその製造方法、並びにリソグラフィー装置及び半導体装置の製造方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：鈴江武彦 , 河野哲 , 中村誠 , 蔵田昌俊 , 峰隆司 , 福原淑弘 , 村松貞男 , 橋本良郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-535204
公開番号（公開出願番号）：特表2005-505930
出願日： 2002年10月02日
公開日（公表日）： 2005年02月24日
要約：

【課題】基板上に多層システムを具備する光学要素の汚れを減少させることにより長有効寿命の光学要素を提供すること。【解決手段】多層システムの少なくとも1層の層材料及び/又は層厚が、照射された動作波長の反射中に形成する定在波が、多層システムの自由界面の領域に電場強度の節(節条件)を形成するように選択されることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基板(1)と、特定の動作波長、特にEUV波長範囲の特定の波長について反射率が最大とされる光学多層システム(3)とを具備し、多層システム(3)の少なくとも1層の層材料及び/又は層厚が、照射された動作波長の反射中に形成する定在波(4)が、多層システム(3)の自由界面(100)の領域に電場強度の節(節条件)を形成するように、選択されることを特徴とする、特にミラー又はマスクである光学要素。

IPC (6件)：

H01L21/027 , G02B5/08 , G03F1/16 , G03F7/20 , G21K1/06 , G21K5/02

FI (9件)：

H01L21/30 531A , G02B5/08 A , G03F1/16 A , G03F7/20 521 , G21K1/06 B , G21K1/06 C , G21K5/02 X , H01L21/30 517 , H01L21/30 531M

Fターム (18件)：

2H042DA08 , 2H042DA09 , 2H042DA16 , 2H042DB02 , 2H042DC02 , 2H042DE00 , 2H095BA01 , 2H095BA10 , 2H095BC11 , 2H095BC19 , 5F046BA05 , 5F046CB02 , 5F046CB17 , 5F046CB25 , 5F046GA07 , 5F046GB01 , 5F046GD07 , 5F046GD10

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭62-144328
特開昭62-144328
特開昭62-144328

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