特許
J-GLOBAL ID:200903083239679135
3次元形状測定方法及びその装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
足立 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-355403
公開番号(公開出願番号):特開2004-191051
出願日: 2002年12月06日
公開日(公表日): 2004年07月08日
要約:
【課題】大きな被測定物であっても容易に3次元測定できる3次元形状測定方法を得る。【解決手段】被測定物1の部分外形形状を形状測定器2により部分座標系で光学的に3次元測定すると共に、部分座標系との3次元位置関係が既知の少なくとも3つの基準点MP1〜MP3を形状測定器2に設ける。各基準点MP1〜MP3の位置を位置測定器14により全体座標系で光学的に3次元測定し、位置測定器14により測定された各基準点MP1〜MP3に基づいて部分座標系の測定値を全体座標系の測定値に変換し、形状測定器2を移動させて、被測定物1の他箇所の部分外形形状の測定と、その位置での各基準点MP1〜MP3の測定とを繰り返し、被測定物1の外形形状を測定する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被測定物の部分外形形状を形状測定手段により部分座標系で光学的に3次元測定すると共に、前記部分座標系との3次元位置関係が既知のターゲットを前記形状測定手段に設け、前記ターゲットを位置測定手段により全体座標系で光学的に3次元測定し、前記ターゲットの前記部分座標系での3次元位置と前記ターゲットの前記全体座標系での測定値との関係に基づいて前記被測定物の前記部分座標系での測定値を前記全体座標系の測定値に変換し、前記形状測定手段を移動させて、前記被測定物の他箇所の部分外形形状の測定と、その位置での前記ターゲットの測定とを繰り返し、前記被測定物の外形形状を測定することを特徴とする3次元形状測定方法。
IPC (3件):
G01B11/24
, G06T1/00
, H04N7/18
FI (3件):
G01B11/24 K
, G06T1/00 315
, H04N7/18 C
Fターム (28件):
2F065AA04
, 2F065AA53
, 2F065BB05
, 2F065BB28
, 2F065BB29
, 2F065CC11
, 2F065FF07
, 2F065FF09
, 2F065FF11
, 2F065FF61
, 2F065HH06
, 2F065JJ03
, 2F065JJ05
, 2F065JJ07
, 2F065JJ26
, 2F065QQ31
, 2F065UU05
, 5B057AA20
, 5B057CA12
, 5B057CB13
, 5B057CD14
, 5B057CH01
, 5B057DA07
, 5C054AA01
, 5C054CF05
, 5C054FD01
, 5C054FD03
, 5C054HA05
引用特許:
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