特許
J-GLOBAL ID:200903083245767747
金属用化学研磨液および化学研磨方法
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-058063
公開番号(公開出願番号):特開平8-225966
出願日: 1995年02月21日
公開日(公表日): 1996年09月03日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】鉄-ニッケル系合金材料、および部品に対して、優れた化学研磨効果を示し、良好な光沢性、平滑性を付与し、有害なNOxガスの発生も抑制する、化学研磨液。【構成】重量%で、塩酸0.7〜14.0、硝酸0.5〜10.0を基本成分とする無機混合水溶液に、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾチアゾリルチオカルボン酸化合物、ベンゾチアゾール、ベンゾトリアゾールとトリルトリアゾールの1種以上の化合物0.001〜3.00、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールとポリビニルアルコールの1種以上0.1〜10.0、界面活性剤の1種以上0.01〜2.0と尿素0.01〜0.1とを添加してなる金属用化学研磨液。
請求項(抜粋):
塩酸0.7〜14.0重量パーセント、硝酸0.5〜10.0パーセントを基本成分とする無機酸混合水溶液に、(A),(B),(C),(D)の各成分を含有せしめてなる金属用化学研磨液。(A)次の(a-1)〜(a-5)から成るグループから選ばれた1種以上の化合物を0.001〜3.00重量パーセント、(a-1)化1で表わされるチアゾール化合物【化1】(ただし、R1は水素原子、ハロゲン、C1〜C4のアルキル基のいずれかを、R2は硫黄原子を表わす。Xは水素原子、-NR3R4、アルカリ金属、アルカリ土類金属であり、nはXの価数と同じ整数を表わす。ここでR3,R4は、独立して水素原子または、C1〜C4のアルキル基、または5員〜7員の脂環式の基であるか、もしくは隣接窒素原子とともに複素環式基を形成してもよい。)(a-2)化2で表わされるベンゾチアゾリルチオカルボン酸化合物【化2】(ただし、R5はアミノ基、メチル基、水酸基、カルボキシル基のいずれか1つの基を表わし、nは0〜2の整数を表わす。R6はC0〜C10の直鎖もしくは分岐した飽和もしくは不飽和脂肪族の二価基またはC6〜C10の芳香族の二価基を表わす。Yは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属であり、mはYの価数と同じ整数を表わす。(a-3)ベンゾチアゾール(a-4)ベンゾトリアゾール(a-5)トリルトリアゾール(B)ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポリビニルアルコールから選ばれた水溶性高分子化合物の1種以上を0.1〜10.0重量パーセント、(C)カチオン系および/またはノニオン系から選ばれた界面活性剤の1種以上を0.01〜2.0重量パーセント、(D)尿素を0.01〜0.1重量パーセント
引用特許:
前のページに戻る