特許
J-GLOBAL ID:200903083284560491

水性ガスシフト反応を包含する水素の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 吉武 賢次 ,  中村 行孝 ,  紺野 昭男 ,  横田 修孝 ,  堅田 健史
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-525529
公開番号(公開出願番号):特表2005-534602
出願日: 2003年07月30日
公開日(公表日): 2005年11月17日
要約:
水素含有ガス流の製造方法であって、一酸化炭素および蒸気を含有するガス流を、還元された状態で、少なくとも15重量%の銅を含むシフト触媒の床に通過させてなり、前記ガス流を、前記シフト触媒のすぐ上流で、銅および/または鉄または酸化鉄を含有する、前記シフト触媒と異なった酸化可能な組成物を含んでなる酸素補集剤の床に通過するという、シフト反応を包含した製造方法。
請求項(抜粋):
水素含有ガス流の製造方法であって、 一酸化炭素および蒸気を含有するガス流を、還元された状態で、少なくとも15重量%の銅を含むシフト触媒の床に通過させてなり、 前記ガス流を、前記シフト触媒のすぐ上流で、銅および/または鉄または酸化鉄を含有する、前記シフト触媒と異なった酸化可能な組成物を含んでなる酸素補集剤の床に通過させるという、シフト反応を包含した、製造方法。
IPC (1件):
C01B3/48
FI (1件):
C01B3/48
Fターム (3件):
4G140EB32 ,  4G140EB34 ,  4G140EB42
引用特許:
審査官引用 (6件)
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