特許
J-GLOBAL ID:200903083316830828
置換ベンゼン化合物、それらの製造方法並びにそれらを含有する除草剤組成物及び落葉剤組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小栗 昌平 (外4名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-517949
公開番号(公開出願番号):特表2001-521027
出願日: 1998年08月21日
公開日(公表日): 2001年11月06日
要約:
【要約】一般構造Iにより表される新規な除草剤及び落葉剤置換アニリン誘導化合物が、記載されている。W、X、Y、Z及びQの定義は、開示されている通りである。また、これらの化合物の製造方法及びこれらを活性成分として含有する農業に好適な組成物も記載されている。これらの組成物は、望ましくない植物種の全般的又は選択的に出芽前又は出芽後に抑制する除草剤、及びこれらの生物学的に活性な化合物を極めて低濃度で用いた落葉剤として有用である。【化1】
請求項(抜粋):
式Iで表される化合物又はその塩: 【化1】 {式中、Xは、水素、ハロゲン、ニトロ、アミノ、NHR、N(R)2、アミド、チオアミド、シアノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルスルホンアミド、非置換若しくは置換アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルコキシカルボニルアルコキシ、ベンジルオキシ、アリールオキシ又はヘテロアリールオキシであり、 Yは、水素、ハロゲン又はニトロであり、 Wは、水素、OR、SR、NHR、N(R)2、CH2R、CH(R)2、C(R)3、ハロゲン、ニトロ又はシアノ(但し、複数の基Rは、Rにより表される置換基のいずれかの可能な組み合わせを表す)であり、 Rは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルコキシ、シクロアルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アルキルスルホニル、ベンジル、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル又はヘテロアリールオキシカルボニル(但し、これらの基のいずれもが、置換基を有していなくても又はハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノ、カルボキシル、アルキル、ハロアルキル、アルキルシリル、アルキルカルボニル、ハロアルキルカルボニル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、ハロアルコキシ、ハロアルコキシカルボニル、アルキルスルホニル、ハロアルキルスルホニル、アリール、ヘテロアリール若しくはシクロアルキルのうちの一つ以上により表される官能基のいずれかにより置換されていてもよい)であり、 Qは、複素環であって、例えば、 【化2】 (式中、R1は、水素、アルキル、ハロアルキル、アルケニル、アルキニル、アミノ、アルコキシアルキル、アセチル、アルコキシカルボニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ又はアルコキシカルボニルであり、 R2は、アルキル又はハロアルキルであり、 R1とR2とが結合して5員又は6員複素環を形成していてもよく、 R3は、水素、ハロゲン、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ、ハロアルキルアミノ、シアノ又はアミドであり、 R8及びR9は、独立的に酸素、イオウ又はイミノ基であり、 Q6、Q7及びQ10は、任意に6員環に1個又は2個の二重結合を含んで不飽和化されたものでよい)等の複素環であり、 Zは、アミノ、ヒドロキシル、チオール、ホルミル、カルボキシル、シアノ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アジド、又は 【化3】 [式中、R4は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アミノ、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ベンジル、アリール、ヘテロアリール、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルチオカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アリールチオ-カルボニル、アリール-チオカルボニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、ヘテロアリールアミノカルボニル、アルコキシカルボニルカルボニル又はアリールカルボニルカルボニル(但し、これらの基のいずれもが、置換基を有していなくても又はハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノ、ジアルキルアミノ、ヒドロキシル、カルボキシル、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アルキルチオ、アルキルチオカルボニル、アルコキシチオカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルキルスルホニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アリール、アリールカルボニル、アリールオキシ、アリールオキシカルボニル、アリールチオ、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシカルボニル若しくはメチレンジオキシ(但し、アルキル成分又はアリール成分は、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルコキシカルボニル、シクロアルキル、アリール又はヘテロシクロアルキルで置換されていてもよい)のうちの一つ以上により表される官能基のいずれかにより置換されていてもよい)であり、R5は水素又はR4で表される基のうちのいずれか一つであるか、又はR4とR5は結合して4〜8員複素環を形成していてもよい]と; 【化4】(式中、R6はアルキル、ハロアルキル、ジアルキルアミノ、非置換若しくは置換アリール及びヘテロアリールを表し、R7は水素、ハロゲン又はR6により表される基のうちのいずれかを表す)と; 【化5】 [式中、R10は、カルボキシル、アルキル、アルケニル、アルキニル、アミノ、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ベンジル、アリール、ヘテロアリール、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アルコキシカルボニル、アルキルチオカルボニル、シクロアルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アリールチオ-カルボニル、アリール-チオカルボニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、アミノカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、ヘテロアリールアミノカルボニル、アルコキシカルボニルカルボニル又はアリールカルボニルカルボニル(但し、これらの基のいずれもが、置換基を有していなくても又はハロゲン、シアノ、ニトロ、アミノ、ジアルキルアミノ、ヒドロキシル、カルボキシル、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アルキルチオ、アルキルチオカルボニル、アルコキシチオカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、アルキルスルホニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アリール、アリールカルボニル、アリールオキシ、アリールオキシカルボニル、アリールチオ、ヘテロアリール、ヘテロアリールオキシカルボニル若しくはメチレンジオキシ(但し、アルキル成分又はアリール成分は、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルコキシカルボニル、シクロアルキル、アリール又はヘテロシクロアルキルで置換されていてもよい)のうちの一つ以上により表される官能基のいずれかにより置換されていてもよい)]とのうちの一つであるが、 但し、(1)QがQ1であり且つR2がハロアルキルであるときには、Zは、アルキル、アルコキシ、ハロアルキル、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、アルケニル、ハロアルケニル、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルコキシアルコキシ又はシアノではなく、 (2)QがQ3であるときには、Zはアミノではなく、 (3)QがQ14又はQ15であるときには、Zはヒドロキシル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルコキシ、ハロアルケニルオキシ又は-NR4R5(式中、R4は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ハロアルキル、ハロアルケニル、アルキルスルホニル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル又はシクロアルキルアルキルであり、R5は、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ハロアルキル、ハロアルケニル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル又はシクロアルキルアルキルである)でない}。
IPC (20件):
C07D239/54
, A01N 43/38
, A01N 43/54
, A01N 43/56
, A01N 43/58
, A01N 43/653
, A01N 43/713
, A01N 43/90 103
, A01N 43/90 104
, C07D237/14
, C07D239/56
, C07D249/12 505
, C07D257/04
, C07D401/12
, C07D401/14
, C07D405/12
, C07D409/12
, C07D409/14
, C07D471/04 108
, C07D487/04 144
FI (21件):
A01N 43/38
, A01N 43/54 F
, A01N 43/56 C
, A01N 43/58 C
, A01N 43/653 Q
, A01N 43/713
, A01N 43/90 103
, A01N 43/90 104
, C07D237/14
, C07D239/56
, C07D249/12 505
, C07D257/04 G
, C07D401/12
, C07D401/14
, C07D405/12
, C07D409/12
, C07D409/14
, C07D471/04 108 Z
, C07D487/04 144
, C07D239/54 Z
, C07D239/54 B
Fターム (42件):
4C050AA01
, 4C050BB06
, 4C050CC08
, 4C050EE03
, 4C050FF01
, 4C050GG03
, 4C050HH01
, 4C063AA01
, 4C063AA03
, 4C063BB07
, 4C063BB08
, 4C063BB09
, 4C063CC29
, 4C063CC34
, 4C063CC75
, 4C063CC92
, 4C063CC94
, 4C063DD12
, 4C063DD14
, 4C063DD29
, 4C063EE03
, 4C065AA03
, 4C065BB06
, 4C065CC01
, 4C065HH01
, 4C065JJ01
, 4C065KK01
, 4C065LL04
, 4C065LL09
, 4C065PP03
, 4H011AB01
, 4H011AB02
, 4H011BA01
, 4H011BB09
, 4H011DA02
, 4H011DA14
, 4H011DA15
, 4H011DA16
, 4H011DD01
, 4H011DD03
, 4H011DD04
, 4H011DF05
引用特許:
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