特許
J-GLOBAL ID：200903083326836166
位相シフトフオトマスク
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小西 淳美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-122055
公開番号（公開出願番号）：特開平7-306522
出願日： 1994年05月12日
公開日（公表日）： 1995年11月21日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 LSI、超LSI、超超LSI等の半導体集積回路を作製するための位相シフトフオトマスクにおいて、特に、微細なライン系パターン5、ホール系パターン6が混在した場合にも対応できるものを提供する。【構成】 ウエハ等へ投影露光によりパターン転写を行う為の位相シフトフオトマスクであって、ウエーハ等へのパターン転写を行う際の露光光に対し、位相シフト効果と遮光効果とを有する半透明膜のパターン2を透明基板1上に設けたハーフトーン型フオトマスクの、ライン系パターン領域5に空間周波数変調型の位相シフト部を設けている。
請求項（抜粋）：
ウエーハ等へ投影露光によりパターン転写を行う為の位相シフトフオトマスクであって、ウエーハ等へのパターン転写を行う際の露光光に対し、位相シフト効果と遮光効果とを有する半透明膜のパターンを透明基板上に設けたハーフトーン型位相シフトフオトマスクの、ライン系パターン領域に空間周波数変調型の位相シフト部を設けていることを特徴とする位相シフトフオトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
