特許
J-GLOBAL ID:200903083370381265

表示素子及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 梶原 康稔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-248834
公開番号(公開出願番号):特開2003-059671
出願日: 2001年08月20日
公開日(公表日): 2003年02月28日
要約:
【要約】【課題】 成膜用マスクによる損傷を受けることなく良好に発光体を形成することができる表示素子及びその製造方法を提供する。【解決手段】 成膜用マスク44の開口46がRの凹部26Rに位置するように位置合わせし、シートマグネット48で吸着する。そして、蒸着源50によってRの有機EL層28Rを凹部26Rに形成する。その後、成膜用マスク44を移動し、G,Bの有機EL層28G,28Bを順に形成する。このとき、凹部26R,26G,26Bには、絶縁スペーサ25がそれぞれ形成されている。このため、シートマグネット48によって成膜用マスク44がリブ形成基板30の凹部26側に吸着されても、絶縁スペーサ25によって変形が低減され、有機EL層形成時における成膜用マスク44と有機EL層28Rや28Gとの接触が回避される。
請求項(抜粋):
周囲にリブが設けられた画素領域に成膜用マスクを使用して発光体が順次形成される表示素子であって、前記成膜用マスクに対して一定のスペースを確保するためのスペーサを、前記画素領域内に形成したことを特徴とする表示素子。
IPC (8件):
H05B 33/22 ,  C23C 14/04 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 320 ,  G09F 9/30 365 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/14
FI (8件):
H05B 33/22 Z ,  C23C 14/04 A ,  G09F 9/00 342 Z ,  G09F 9/30 320 ,  G09F 9/30 365 Z ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/12 B ,  H05B 33/14 A
Fターム (37件):
3K007AB04 ,  3K007AB17 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04 ,  5C094AA08 ,  5C094AA47 ,  5C094AA48 ,  5C094BA03 ,  5C094BA12 ,  5C094BA27 ,  5C094CA19 ,  5C094CA24 ,  5C094DA13 ,  5C094FA01 ,  5C094FA02 ,  5C094FA04 ,  5C094FB01 ,  5C094FB20 ,  5C094GB10 ,  5G435AA01 ,  5G435AA04 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435CC09 ,  5G435CC12 ,  5G435HH14 ,  5G435HH18 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10
引用特許:
審査官引用 (4件)
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