特許
J-GLOBAL ID：200903083372663799
カーボンナノチューブ製造装置及びカーボンナノチューブの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-348105
公開番号（公開出願番号）：特開2005-112659
出願日： 2003年10月07日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：
【課題】 長さ、チューブ径(直径)及び成長方向等が均質なカーボンナノチューブを製造することが可能なカーボンナノチューブ製造装置、及び、カーボンナノチューブの製造方法を提供する。【解決手段】 原料ガスが供給される反応室32と、反応室32内に搭載され表面に触媒26が担持され、これと反対側に高熱容量材料層20と高熱伝導材料層22と、高磁性材料層24と、がこの順で設けられ、貫通孔28を有する生成基板16とを備えたカーボンナノチューブ製造装置及びこれを用いたカーボンナノチューブの製造方法等。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
原料ガスが供給される反応室と、
前記反応室内に搭載され、前記原料ガスが供給される側に前記原料ガスと反応させてカーボンナノチューブを生成するための触媒を担持し、且つ、前記触媒が担持される側とは反対側に高熱容量材料層と高熱伝導材料層とをこの順で備える生成基体と、
を備えたカーボンナノチューブ製造装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C01B31/02 101F
, B82B1/00
4G146AA11
, 4G146AC27B
, 4G146BA12
, 4G146BA48
, 4G146BC09
, 4G146BC27
, 4G146BC33B
, 4G146BC47
, 4G146CA01
, 4G146CA09
, 4G146DA02
, 4G146DA16
, 4G146DA27
, 4G146DA30
, 4G146DA32
