紫外線硬化性樹脂組成物、フォトソルダーレジストインク、予備乾燥被膜、基板、プリント配線板及びドライフィルム

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西川惠清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-375132
公開番号（公開出願番号）：特開2002-174900
出願日： 2000年12月08日
公開日（公表日）： 2002年06月21日
要約：

【要約】【課題】優れたはんだ耐熱性示すソルダーレジストを基板上に形成し得るフォトソルダーレジストインクを調製可能な、一液型として好適な紫外線硬化性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 (A)分子中に2個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して、分子中にカルボキシル基を1個のみ有するエチレン性不飽和単量体と、分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸とを含んでなるカルボン酸成分を反応させて得られる化合物(a)と、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体(b)とを含有するエチレン性不飽和単量体成分を重合させて生成される共重合体に、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体(c)を反応させた後、飽和又は不飽和の多塩基酸無水物(d)を反応させて生成される紫外線硬化性樹脂、(B)光重合開始剤及び(C)希釈剤を含有させる。

請求項（抜粋）：

(A)分子中に2個のエポキシ基を有する化合物を含んでなるエポキシ化合物成分に対して、分子中にカルボキシル基を1個のみ有するエチレン性不飽和単量体と分子中に重合性を有する基をもたないモノカルボン酸とを含んでなるカルボン酸成分を反応させて得られる化合物(a)と、エポキシ基を有するエチレン性不飽和単量体(b)とを含有するエチレン性不飽和単量体成分を重合させて生成される共重合体に、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和単量体(c)を反応させた後、飽和又は不飽和の多塩基酸無水物(d)を反応させて生成される紫外線硬化性樹脂、(B)光重合開始剤及び(C)希釈剤を含有して成ることを特徴とする紫外線硬化性樹脂組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/038 501 , G03F 7/038 503 , C08F 2/50 , C08F290/04 , G03F 7/027 502 , C09D 11/10

FI (6件)：

G03F 7/038 501 , G03F 7/038 503 , C08F 2/50 , C08F290/04 , G03F 7/027 502 , C09D 11/10

Fターム (53件)：

2H025AA10 , 2H025AA11 , 2H025AA14 , 2H025AA20 , 2H025AB11 , 2H025AB15 , 2H025AB20 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BC13 , 2H025BC32 , 2H025BC74 , 2H025BC83 , 2H025BC85 , 2H025BC86 , 2H025BJ10 , 2H025CA00 , 2H025FA17 , 4J011QB19 , 4J011QB20 , 4J011SA78 , 4J011SA83 , 4J011TA07 , 4J011WA01 , 4J027AE02 , 4J027AE07 , 4J027CB10 , 4J027CC05 , 4J027CD10 , 4J039AD20 , 4J039AD21 , 4J039AE05 , 4J039AF05 , 4J039BC03 , 4J039BC07 , 4J039BC08 , 4J039BC10 , 4J039BC13 , 4J039BC14 , 4J039BC15 , 4J039BC16 , 4J039BC22 , 4J039BC23 , 4J039BC25 , 4J039BC26 , 4J039BC33 , 4J039BE12 , 4J039BE27 , 4J039CA04 , 4J039DA01 , 4J039EA06 , 4J039EA37 , 4J039GA19

引用特許：

出願人引用 (4件)

感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-175822 出願人：タムラ化研株式会社
光硬化性樹脂及び該樹脂を含有するソルダーフォトレジストインキ組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-187868 出願人：日華化学株式会社
感光性組成物及びそれを用いて得られる焼成物パターン
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-063902 出願人：太陽インキ製造株式会社

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