特許
J-GLOBAL ID：200903072458382502

感光性組成物及びそれを用いて得られる焼成物パターン

発明者：
柿沼 正久

柿沼 正久 について

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小島 秀明

小島 秀明 について

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柳田 伸行

柳田 伸行 について


出願人/特許権者：
太陽インキ製造株式会社

太陽インキ製造株式会社 について


代理人 (1件)： ▲吉▼田 繁喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-063902
公開番号（公開出願番号）：特開平11-249302
出願日： 1998年03月02日
公開日（公表日）： 1999年09月17日
要約：
【要約】【課題】 焼成後のパターンのよれや線幅収縮等の問題もなく、フォトリソグラフィー技術により容易に高精細の導電パターン、ガラス質誘電体パターン、蛍光体パターンなどの焼成物パターンを形成できるアルカリ現像型の感光性組成物及びそれにより得られる焼成物パターンを提供する。【解決手段】 組成物は、(A)不飽和二重結合とカルボキシル基を有する化合物(a)と不飽和二重結合を有する化合物(b)の共重合体に、不飽和二重結合とグリシジル基を有する化合物(c)を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性ポリマー、(B)希釈剤、(C)光重合開始剤、(D)無機粉体、及び(E)安定剤を含有する。この感光性組成物を基板上に塗布した後、所定のパターン通りに露光し、アルカリ水溶液により現像した後、焼成することにより、高精細の焼成物パターンを形成できる。
請求項（抜粋）：
(A)不飽和二重結合とカルボキシル基を有する化合物(a)と不飽和二重結合を有する化合物(b)の共重合体に、不飽和二重結合とグリシジル基を有する化合物(c)を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性ポリマー、(B)希釈剤、(C)光重合開始剤、(D)無機粉体、及び(E)安定剤を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/027 515 ,  C08F 2/44 ,  C08F 2/48 ,  H01B 3/30 ,  H01J 9/20
FI (5件)：
G03F 7/027 515 ,  C08F 2/44 A ,  C08F 2/48 ,  H01B 3/30 Z ,  H01J 9/20
引用特許：
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (18件)
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