特許

J-GLOBAL ID：200903083590268710

ポジ型レジスト組成物

発明者： 藤森 亨
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-247337
公開番号（公開出願番号）：特開2004-085931
出願日： 2002年08月27日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：

【課題】良好な現像欠陥性能、矩形なレジストプロファイルを有するポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)特定の脂環式炭化水素を含む部分構造を有する繰り返し単位を有し、アルカリに対して不溶性或いは難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂及び(C)3つ以上の水酸基又は置換された水酸基を有する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (B)下記一般式(pI)〜一般式(pVI)で示される脂環式炭化水素を含む部分構造を有する繰り返し単位を有し、アルカリに対して不溶性或いは難溶性であり、酸の作用で分解してアルカリ可溶性となる樹脂及び (C)3つ以上の水酸基又は置換された水酸基を有する化合物 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F7/039 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (5件)：

G03F7/039 601 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R

Fターム (36件)：

2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA02S ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA03S ,  4J100BA11Q ,  4J100BA11R ,  4J100BC04P ,  4J100BC07S ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (2件)

• レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-108838   出願人：信越化学工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-174043   出願人：シップレーカンパニーエルエルシー