スパッタリング用ターゲット及びその製造方法ならびに高融点金属粉末材料

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：開口宗昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-192994
公開番号（公開出願番号）：特開2001-020065
出願日： 1999年07月07日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
要約：

【要約】【課題】高純度で成形性に優れた高融点金属粉末、特に鉄よりも高融点であるTa、Ru等からなる球状金属粉末の製造方法を確立する。さらにこれらの粉末を加圧焼結して、化学組成において高純度かつ低酸素であり、加えて高密度で組織が微細かつ均一である、高融点金属及びその合金のターゲットを製造する。【解決手段】高融点金属材料を主体とする粉末材料を、水素ガスを導入した熱プラズマ内にに導入することにより精錬及び球状化する。さらに得られた粉末を熱間静水圧プレス等により加圧焼結する。

請求項（抜粋）：

高融点金属材料を主体とする粉末材料を熱プラズマに導入することにより精錬及び球状化し、得られた粉末を加圧焼結することを特徴とするターゲットの製造方法。

IPC (4件)：

C23C 14/34 , B22F 3/105 , B22F 3/15 , B22F 9/14

FI (4件)：

C23C 14/34 A , B22F 3/105 , B22F 9/14 Z , B22F 3/14 M

Fターム (20件)：

4K017AA03 , 4K017BA02 , 4K017BA07 , 4K017CA01 , 4K017DA01 , 4K017EF01 , 4K017FB06 , 4K018AA02 , 4K018AA40 , 4K018BA01 , 4K018BA03 , 4K018BB01 , 4K018EA13 , 4K018EA16 , 4K018KA29 , 4K029BA02 , 4K029BA16 , 4K029BD01 , 4K029DC03 , 4K029DC09

引用特許：

審査官引用 (11件)

特開2051-266008
特開平4-246104
特開昭60-224706

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引用文献：

審査官引用 (3件)

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