特許
J-GLOBAL ID：200903083653026631

成膜装置

発明者：
中武 靖裕

中武 靖裕 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (3件)： 前田 弘 ,  竹内 祐二 ,  米田 圭啓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-275068
公開番号（公開出願番号）：特開2006-089793
出願日： 2004年09月22日
公開日（公表日）： 2006年04月06日
要約：
【課題】成膜中の異常放電を低減し、成膜の精度を向上させる。【解決手段】成膜室4と、成膜室4の内部に収容され、ガラス基板16を保持するトレイ15と、成膜室4の内部に設けられ、ガラス基板16に対向するように配置されたターゲット12と、トレイ15とターゲット12との間で、トレイ15に対向配置され、ガラス基板16の外周部を覆う成膜マスク13と、成膜マスク13をガラス基板16に対して、接近又は離間させるマスク移動手段とを備えた成膜装置であって、トレイ15と成膜マスク13との間には、絶縁材料により構成され、マスク移動手段によりガラス基板16に接近された成膜マスク13とガラス基板16との間隔を均一にするためのスペーサー部14が設けられている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
成膜室と、 上記成膜室の内部に収容され、基板を保持する基板保持部と、 上記成膜室の内部に設けられ、上記基板に対向するように配置された電極部と、 上記基板保持部と上記電極部との間で、該基板保持部に対向配置され、上記基板の外周部を覆う成膜マスクと、 上記成膜マスクを上記基板に対して、接近又は離間させるマスク移動手段とを備えた成膜装置であって、 上記基板保持部と上記成膜マスクとの間には、絶縁材料により構成され、上記マスク移動手段により上記基板に接近された成膜マスクと上記基板との間隔を均一にするためのスペーサー部が設けられていることを特徴とする成膜装置。
IPC (1件)：
C23C 14/04
FI (1件)：
C23C14/04 A
Fターム (12件)：
4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA03 ,  4K029BA17 ,  4K029BA60 ,  4K029BB02 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05 ,  4K029HA01 ,  4K029HA02 ,  4K029KA02 ,  4K029KA09
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 薄膜形成装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-154652   出願人：松下電器産業株式会社
  • スパッタリング装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-173658   出願人：松下電器産業株式会社
審査官引用 (6件)
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