基板処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-138665
公開番号（公開出願番号）：特開平11-330037
出願日： 1998年05月20日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：

【要約】【課題】フットプリントを最小限に抑えるとともに、各処理部間を搬送する際の制御機構を簡単にし、外部装置と直接インライン化を図ること。【解決手段】洗浄処理部と乾燥処理部とが上下方向(Z方向)に配置された第1処理部群と第2処理部群とを設け、基板搬送を行う機構として第1搬送ロボットTR1と第2搬送ロボットTR2とを設ける。第1搬送ロボットTR1は、基板収納部7に配置されたポッド9aと第1処理部群MP1と第2処理部群MP2との乾燥処理部と基板載置部82とに対して基板Wの搬送を行う。第2搬送ロボットTR2は、第1処理部群MP1と第2処理部群MP2と基板載置部82とに対して基板搬送を行う。第1搬送ロボットTR1はバッファ部72に対してもアクセスし、第2搬送ロボットTR2は外部装置となるCMP装置200にもアクセスする。

請求項（抜粋）：

基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、(a) 基板の乾燥を行う第1の乾燥処理部と、基板の洗浄を行う第1の洗浄処理部とを有し、前記第1の乾燥処理部と前記第1の洗浄処理部とを上下方向に配置した第1処理部群と、(b) 前記第1処理部群とは所定の間隔を隔てて配置され、基板の乾燥を行う第2の乾燥処理部と、基板の洗浄を行う第2の洗浄処理部とを有し、前記第2の乾燥処理部と前記第2の洗浄処理部とを上下方向に配置した第2処理部群と、(c) 前記第1処理部群と前記第2処理部群との間に配置された基板載置部と、(d) 基板を収納する収納器を配置するための基板収納部と、(e) 前記基板収納部に配置された収納器と前記第1の乾燥処理部と前記第2の乾燥処理部と前記基板載置部とに対して基板の搬送を行う第1搬送機構と、(f) 前記第1処理部群と前記第2処理部群と前記基板載置部とに対して基板の搬送を行う第2搬送機構と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 648 , H01L 21/304 , H01L 21/304 644 , H01L 21/68

FI (4件)：

H01L 21/304 648 J , H01L 21/304 648 A , H01L 21/304 644 B , H01L 21/68 A

引用特許：

出願人引用 (2件)

処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-202717 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-169012 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

審査官引用 (2件)

処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-202717 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-169012 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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