特許
J-GLOBAL ID:200903083666888250

光学素子及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 森岡 正樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-068623
公開番号(公開出願番号):特開2004-279588
出願日: 2003年03月13日
公開日(公表日): 2004年10月07日
要約:
【課題】本発明は、光集積回路、電子複写機の光学系等で用いられる光学素子及び光学素子の製造方法に関し、設計の自由度が高く、小型・高性能な光学素子及び光学素子の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】ガラス基板2上に、ガラス基板2の屈折率と異なる屈折率を有する屈折率制御膜3を形成する。次いで、屈折率制御膜3上に塗布したレジスト層をパターニングして樹脂層4を形成し、樹脂層4を熱処理して外表面が曲面状の樹脂層5を形成する。樹脂層5をマスクに屈折率制御膜3をドライエッチングして外表面が曲面状のマイクロレンズ6が配列されたマイクロレンズアレイ1を形成する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
光学材料からなる基板と、 前記基板上に外表面が曲面状に形成され、前記基板の屈折率と異なる屈折率を有する光学薄膜と を有することを特徴とする光学素子。
IPC (2件):
G02B3/00 ,  C03C17/02
FI (4件):
G02B3/00 Z ,  G02B3/00 A ,  G02B3/00 B ,  C03C17/02 A
Fターム (8件):
4G059AA11 ,  4G059AB07 ,  4G059AB11 ,  4G059AB19 ,  4G059AC01 ,  4G059AC09 ,  4G059CA01 ,  4G059CB01
引用特許:
審査官引用 (5件)
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