特許
J-GLOBAL ID：200903083681638774
光導波路及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-065737
公開番号（公開出願番号）：特開2001-249239
出願日： 2000年03月06日
公開日（公表日）： 2001年09月14日
要約：
【要約】【課題】 位置合せマークのコントラストを向上させてコアと構造物との位置合せを精度良く行える光導波路及びその製造方法を提供する。【解決手段】 基板11上にコア12と位置合わせマーク14を形成する光導波路及びその製造方法において、上記コア12の形成範囲以外でかつ位置合わせマークを形成する位置に、その位置合わせマーク14の範囲よりも大きな範囲の不透明又は半透明の膜15を形成し、その膜15を形成した基板11上にコア材料を堆積させた後エッチングしてコアと位置合わせマークを形成し、その後、位置合せマークをエッチングマスクにして上記膜15をエッチングする。
請求項（抜粋）：
基板上にコアと位置合わせマークとを形成した光導波路において、上記位置合わせマークと上記基板との間に位置合わせマークのコントラストを向上させる不透明又は半透明膜を形成したことを特徴とする光導波路。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 A
, G02B 6/12 M
2H047KA04
, 2H047PA03
, 2H047PA04
, 2H047PA21
, 2H047PA24
, 2H047QA04
