特許
J-GLOBAL ID：200903083682226240

界面活性剤を含む放射性廃液の処理方法及びその処理装置

発明者：
松尾 俊明

松尾 俊明 について

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西 高志

西 高志 について

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松本 隆行

松本 隆行 について

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松田 将省

松田 将省 について

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雪田 篤

雪田 篤 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-372807
公開番号（公開出願番号）：特開2000-193789
出願日： 1998年12月28日
公開日（公表日）： 2000年07月14日
要約：
【要約】【課題】二次廃棄物発生量を大幅に抑制でき、オゾンを用いた場合の有機物分解処理速度を増加させる。【解決手段】放射性洗濯廃液が廃液加熱槽16内に供給される。過酸化水素が過酸化水素タンク22から、アルカリ溶液がアルカリ溶液タンク25から廃液加熱槽16に供給される。アルカリ溶液によって、放射性洗濯廃液のpHが7以上に調整される。放射性洗濯廃液は加熱装置4で50°C以上に加熱される。加熱された放射性洗濯廃液は曝気槽2A,2Bに導かれる。オゾンがオゾン発生器1,オゾンガス吐出口3Aより曝気槽2Aに供給される。曝気槽2Aから排出されたオゾンがオゾンガス吐出口3Bより曝気槽2Bに導かれる。過酸化水素の存在下で50°C以上に加熱されるので、オゾンの放射性洗濯廃液内への溶解量が増加し、有機物を分解するヒドロキシラジカルの生成量が増加する。
請求項（抜粋）：
界面活性剤を始めとする有機物を含む放射性廃液に、過酸化水素を添加すると共に、オゾンを注入し、このオゾンの注入は、前記放射性廃液を50°C以上に加熱して行うことを特徴とする界面活性剤を含む放射性廃液の処理方法。
IPC (7件)：
G21F 9/06 551 ,  G21F 9/06 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/72 ,  C02F 1/78 ,  G21F 9/08 511 ,  G21F 9/28 525
FI (8件)：
G21F 9/06 551 A ,  G21F 9/06 G ,  C02F 1/58 C ,  C02F 1/58 A ,  C02F 1/72 Z ,  C02F 1/78 ,  G21F 9/08 511 B ,  G21F 9/28 525 G
Fターム (29件)：
4D038AA08 ,  4D038AB01 ,  4D038AB02 ,  4D038AB07 ,  4D038BA02 ,  4D038BA04 ,  4D038BA06 ,  4D038BB01 ,  4D038BB06 ,  4D038BB13 ,  4D038BB16 ,  4D038BB17 ,  4D038BB20 ,  4D050AA13 ,  4D050AB01 ,  4D050AB02 ,  4D050AB07 ,  4D050BB02 ,  4D050BB09 ,  4D050BC01 ,  4D050BC10 ,  4D050BD02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD04 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA06 ,  4D050CA13 ,  4D050CA15
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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