特許

J-GLOBAL ID：200903083692230882

液浸リソグラフィーに用いるレジスト積層体

発明者： 荒木 孝之 ,  山下 恒雄 ,  石川 卓司
出願人/特許権者： ダイキン工業株式会社
代理人 (2件)： 朝日奈 宗太 ,  秋山 文男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-010900
公開番号（公開出願番号）：特開2006-133716
出願日： 2005年01月18日
公開日（公表日）： 2006年05月25日
要約：

【課題】193nm以上の露光光に対して透明で、さらに液浸露光時において、目的の形状の微細パターンを欠陥なくかつ再現良く形成可能なレジスト積層体を提供する。【解決手段】基材上にフォトレジスト層(L1)と透明な保護層(L2)を有し、該保護層(L2)が積層体の最表面に形成するレジスト積層体であって、保護層(L2)が波長193nm以上の紫外光での吸光係数が1.0μm-1以下、現像液溶解速度が50nm/sec以上、かつ純水に対する溶解速度が10nm/min以下であるレジスト積層体。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材上にフォトレジスト層(L1)と保護層(L2)を有し、該保護層(L2)が積層体の最表面側に形成されており、かつ保護層(L2)が、 (1)波長193nm以上の紫外光での吸光係数が1.0μm-1以下、 (2)現像液溶解速度が50nm/sec以上、かつ (3)純水に対する溶解速度が10nm/min以下 であることを特徴とする露光紫外光が波長193nm以上である液浸リソグラフィー用レジスト積層体。

IPC (3件)：

G03F 7/11 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/11 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 575

Fターム (14件)：

2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025DA02 ,  2H025DA03 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  5F046JA22

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 反射防止膜形成用塗布液組成物およびこれを用いたレジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-164600   出願人：東京応化工業株式会社