特許
J-GLOBAL ID:200903083716206570

傾斜貫通細孔を有するプラズマエッチング用シリコン電極板

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 富田 和夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-242853
公開番号(公開出願番号):特開平11-087319
出願日: 1997年09月08日
公開日(公表日): 1999年03月30日
要約:
【要約】【課題】 従来よりも均一にエッチングを行うことができるプラズマエッチング用シリコン電極板を提供する。【解決手段】 プラズマエッチング用シリコン電極板12の貫通細孔として、傾斜した傾斜貫通細孔51を形成する。
請求項(抜粋):
厚さのある円板状シリコン電極板に一方の面から他方の面に向かって貫通する貫通細孔が設けられているプラズマエッチング用シリコン電極板において、電極板中心の貫通細孔を除く前記貫通細孔は、いずれも円板状シリコン電極板の一方の面から他方の面に向かって半径方向に傾斜している貫通細孔であることを特徴とする傾斜貫通細孔を有するプラズマエッチング用シリコン電極板。
IPC (2件):
H01L 21/3065 ,  C23F 4/00
FI (2件):
H01L 21/302 B ,  C23F 4/00 A
引用特許:
審査官引用 (3件)

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