マイクロチャンネル内表面の部分化学修飾方法とマイクロチャンネル構造体

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：西澤利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-333789
公開番号（公開出願番号）：特開2005-169386
出願日： 2004年11月17日
公開日（公表日）： 2005年06月30日
要約：

【課題】マイクロチャンネル内表面を部分的に化学修飾するための簡便な方法と、そのような方法によって得られたマイクロチャンネル構造体を用いる各種の多相流操作、とくに気液界面を利用する操作に関連する各種の方法を提供する。【解決手段】少なくとも二つのチャンネルが任意の領域において並行接触して接触部分を形成しており、この接触部分では各チャンネルを流れる流体の界面が形成されるマイクロチャンネル構造において、一つのチャンネルのみを化学修飾する方法であって、化学修飾される第一チャンネル21内に修飾試薬含有溶液を導入し、この第一チャンネル21内の修飾試薬含有溶液の液圧と、第一チャンネル21と並行接触して接触部分を形成する化学修飾されない第二チャンネル22内の気圧が平衡を保つ状態で静置し、次いで第二チャンネル22内を加圧とすることにより過剰の修飾試薬含有溶液を第一チャンネル内から排出する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

少なくとも二つのチャンネルが任意の領域において並行接触して接触部分を形成しており、この接触部分では各チャンネルを流れる流体の界面が形成されるマイクロチャンネル構造において、一つのチャンネルの内表面のみを化学修飾する方法であって、化学修飾される第一チャンネル内に修飾試薬含有溶液を導入し、第一チャンネル内の修飾試薬含有溶液の液圧と、第一チャンネルと並行接触して接触部分を形成する化学修飾されない第二チャンネル内の気圧が平衡を保つ状態で静置し、次いで第二チャンネル内を加圧とすることにより過剰の修飾試薬含有溶液を第一チャンネル内から排出することを特徴とするマイクロチャンネル内表面の部分化学修飾方法。

IPC (5件)：

B01J19/00 , B01D11/04 , B01D19/00 , B81B1/00 , F25D9/00

FI (5件)：

B01J19/00 321 , B01D11/04 C , B01D19/00 F , B81B1/00 , F25D9/00 D

Fターム (38件)：

3L044EA03 , 4D011AA15 , 4D011AB02 , 4D011AC10 , 4D056AB13 , 4D056AB14 , 4D056AC02 , 4D056BA20 , 4D056CA06 , 4D056CA13 , 4D056CA37 , 4D056CA39 , 4D056CA40 , 4D056DA04 , 4G075AA03 , 4G075AA13 , 4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075AA45 , 4G075BA06 , 4G075BA10 , 4G075BB02 , 4G075BB03 , 4G075BB05 , 4G075BC06 , 4G075BD01 , 4G075BD15 , 4G075BD17 , 4G075BD22 , 4G075BD23 , 4G075BD26 , 4G075CA05 , 4G075DA02 , 4G075EA02 , 4G075EE03 , 4G075EE21 , 4G075FA05 , 4G075FB06

引用特許：

出願人引用 (1件)

マイクロチャンネル立体交差構造体と立体交差多層流の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-211254 出願人：財団法人神奈川科学技術アカデミー

審査官引用 (1件)

化学操作の実施方法及びこれを用いた溶媒抽出方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-196906 出願人：東ソー株式会社

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