特許
J-GLOBAL ID：200903083773294745
温度制御システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
嶋 宣之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-339692
公開番号（公開出願番号）：特開2001-153518
出願日： 1999年11月30日
公開日（公表日）： 2001年06月08日
要約：
【要約】【課題】チラー装置から通路を介して供給される流体のプロセス装置側の温度を厳密に制御できるとともに、構成が簡単な温度制御システムを提供すること。【解決手段】プロセス装置1とチラー装置2とを接続する流体供給通路4および戻り通路5と、チラー装置1の出口1aの温度を制御する第1温度制御部3と、供給通路4中に設ける第2温度制御部6とを備え、第2温度制御部6は、プロセス装置側の温度T1を検出し、検出した温度に応じて第1温度制御部に対してチラー装置の出口温度T2を要求するとともに、上記チラー装置1から供給された流体温度を微調整してから上記プロセス装置2へ供給する。
請求項（抜粋）：
半導体製造装置などのプロセス装置とチラー装置とを接続する流体供給通路および戻り通路と、チラー装置の出口温度を制御する第1温度制御部と、上記供給通路中に設ける第2温度制御部とを備え、この第2温度制御部は、プロセス装置側の温度を検出し、検出した温度に応じて第1温度制御部に対してチラー装置の出口温度を要求するとともに、この第2温度調整部が上記チラー装置から供給された流体温度を微調整してから上記プロセス装置へ供給することを特徴とする温度制御システム。
Fターム (6件)：
3L044AA04
, 3L044CA18
, 3L044DD07
, 3L044HA01
, 3L044JA01
, 3L044KA05
