特許
J-GLOBAL ID:200903083779236488

コーティング剤およびそれを用いた高屈折率層の形成方法およびホログラム形成体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-042737
公開番号(公開出願番号):特開2001-234121
出願日: 2000年02月21日
公開日(公表日): 2001年08月28日
要約:
【要約】【課題】本発明は、基材の劣化や変形が少なく、基材への密着性に優れたコーティング剤およびそれを用いた高屈折率層の形成方法並びにホログラム形成体の製造方法を提供することを目的とするものである。【解決手段】金属アルコキシドまたは/および高屈折率微粒子を主成分として含有することを特徴とするコーティング剤およびそのコーティング剤を用いて、塗布手段によって基材の上に高屈折率層を被覆することを特徴とする高屈折率層の形成方法並びに基材樹脂表面に設けられたホログラムの微細凹凸パターンと、該微細凹凸パターン表面に形成された透明反射層を有するホログラム形成体の製造方法において、前記高屈折率層からなる透明反射層を有することを特徴とするホログラム形成体の製造方法である。
請求項(抜粋):
金属アルコキシドまたは/および高屈折率微粒子を主成分として含有することを特徴とするコーティング剤。
IPC (3件):
C09D185/00 ,  G02B 1/10 ,  G03H 1/02
FI (3件):
C09D185/00 ,  G03H 1/02 ,  G02B 1/10 Z
Fターム (23件):
2K008AA13 ,  2K008EE04 ,  2K008FF12 ,  2K008FF13 ,  2K008GG05 ,  2K008HH01 ,  2K009AA04 ,  2K009BB24 ,  2K009CC09 ,  2K009CC21 ,  2K009CC42 ,  2K009CC45 ,  2K009DD02 ,  2K009EE01 ,  2K009FF03 ,  4J038AA011 ,  4J038HA166 ,  4J038HA216 ,  4J038HA481 ,  4J038JA23 ,  4J038KA08 ,  4J038NA01 ,  4J038NA19
引用特許:
審査官引用 (9件)
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引用文献:
審査官引用 (2件)
  • 化学便覧 基礎編
  • 化学便覧 基礎編, 19930930, 改訂4版, p.517-518

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