特許
J-GLOBAL ID:200903083792222291
戻り光測定方法、戻り光測定装置及びレーザ加工方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (5件):
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 黒木 義樹
, 近藤 伊知良
, 柴田 昌聰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-043152
公開番号(公開出願番号):特開2009-195976
出願日: 2008年02月25日
公開日(公表日): 2009年09月03日
要約:
【課題】 あらかじめアイソレータを逆方向に透過する戻り光を確認することができる戻り光測定方法、戻り光測定装置及びレーザ加工方法を提供する。【解決手段】 レーザ加工装置1は、レーザ光源部10、導光部20、出射光学系30、照射光学系35及び集光光学系36を備え、レーザ光を照射して加工対象物を加工する。また、戻り光測定装置として、光源41、光検出部42及び制御部43を備えている。光源41は、出射光学系30のレンズ38による集光点を含み、光軸方向に垂直な面に配置されレンズ38に向けて参照光を出力する。光検出部42は、コリメータ32とアイソレータ33との間に配置され、光源41から出力され、レンズ38を経てアイソレータ33の第2端33bに入力し、第1端33aから出力された参照光を検出し、この検出した光のパワーが事前に設定された基準パワーに達しているか判定する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
入射光に対し特定の光路の出射光を出射し、前記特定の光路に対し出射方向とは逆方向に進む戻り光を遮断するアイソレータを含む出射光学系と、
前記出射光学系からの出射光を入射し、ミラーを操作し、fθレンズを介し、前記出射光を照射する光学系であり、その照射する照射位置を制御する照射光学系とを有する装置において、
前記アイソレータを逆方向に通過する戻り光のパワーを測定する戻り光測定方法であり、
開口数の大きな光を出射する光源を用いて、前記fθレンズの照射側より前記fθレンズに向かって参照光を出射し、
前記照射位置を変更しながら、前記照射位置毎に、前記アイソレータに逆方向に通過後の戻り光のパワーを測定し、
測定された各パワーが事前に設定された基準のパワーに達しているかどうかを判定する
戻り光測定方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (3件):
4E068CB08
, 4E068CC01
, 4E068CE03
引用特許:
出願人引用 (2件)
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光アイソレータ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-025175
出願人:三菱化成株式会社
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特公昭61-058809号公報
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