特許

J-GLOBAL ID：200903083794280566

電子的に可変な密度プロファイルを有するプラズマ源

発明者： ケネス エス. コリンズ ,  テツヤ イシカワ
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-229208
公開番号（公開出願番号）：特開平9-120898
出願日： 1996年07月26日
公開日（公表日）： 1997年05月06日
要約：

【要約】【課題】 電子的に可変な密度プロファイルを有するプラズマ源を提供する。【解決手段】 プラズマキャビティを内部に画成するチャンバ体を含むプラズマシステムであって、第1アンテナがプラズマキャビティに関して操作中に基板上方において中央にピークがくるプラズマ密度プロファイルが得られるように形作られ且つ位置し、第2アンテナがプラズマチャンバに関して操作中に基板上方において中央が中空になるプラズマ密度プロファイルが得られるように形作られ且つ位置する、基板を処理するためのプラズマシステムを提供する。

請求項（抜粋）：

基板を処理するためのプラズマシステムにおいて、プラズマキャビティを画成するチャンバ本体と、前記プラズマキャビティに関して、操作中に基板上方において中央にピークがくるプラズマ密度プロファイル(profile)を作り出すように構成され、配置された第1のアンテナと、前記プラズマチャンバに関して、操作中に基板上方において中央が中空になるプラズマ密度プロファイルを作り出すように構成され、配置された第2のアンテナと、を含むプラズマシステム。

IPC (2件)：

H05H 1/46 ,  H01L 21/3065

FI (2件)：

H05H 1/46 A ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• プラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-338764   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 誘導プラズマの発生方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-204381   出願人：富士電機株式会社, 作田忠裕
• 特開昭57-007100