特許
J-GLOBAL ID：200903083802294733

プラズマ処理装置

発明者：
金子 拓史

金子 拓史 について

, 
野口 武史

野口 武史 について


出願人/特許権者：
ワイエイシイ株式会社

ワイエイシイ株式会社 について


代理人 (7件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-184366
公開番号（公開出願番号）：特開2004-031566
出願日： 2002年06月25日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：
【課題】給電部の電位が低く、プラズマ処理の面内均一性に優れ、制御性にも優れ、しかも、大面積のプラズマ処理が可能なプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】内部の圧力が制御可能な真空容器と、真空容器内に処理ガスを供給するガス供給手段と、真空容器内に設けられて上面に基板を載置する電極と、この電極に対向配置され2つのコイル31a、31bを並列に配置してなる平面状のコイルアンテナ31とコイル31a、31b各々に直列に接続されたコンデンサ34a、34bとを備えた集合体アンテナ15とを備え、集合体アンテナ15と電極との間に高周波電力を印加することによりプラズマを発生させて基板に処理を施すことを特徴とする。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
内部の圧力が制御可能な容器と、該容器内に処理ガスを供給するガス供給手段と、前記容器内に設けられて一主面上に被処理物を載置する第1の電極と、該第1の電極に対向配置された第2の電極とを備え、これら第1及び第2の電極間に高周波電力を印加することによりプラズマを発生させて前記被処理物に処理を施すプラズマ処理装置において、 前記第2の電極は、複数のコイルを並列に配置してなる平面状のコイルアンテナと前記コイル各々に直列に接続された1つ以上のコンデンサとを備えた集合体アンテナからなることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L21/3065 ,  H01Q1/22 ,  H01Q1/38 ,  H05H1/46
FI (4件)：
H01L21/302 101C ,  H01Q1/22 Z ,  H01Q1/38 ,  H05H1/46 L
Fターム (17件)：
5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB13 ,  5F004BD01 ,  5F004BD03 ,  5F004CA09 ,  5J046AA04 ,  5J046AA12 ,  5J046AB02 ,  5J046AB12 ,  5J046PA07 ,  5J047AA04 ,  5J047AA12 ,  5J047AB02 ,  5J047AB12 ,  5J047EF05
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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